发明名称 | 一种合成三氧化钼单晶纳米带的方法 | ||
摘要 | 一种合成三氧化钼单晶纳米带的方法,涉及一种低维纳米材料的制备。本发明是以可溶性钼酸盐为钼源,高氯酸为酸化沉淀剂,水为介质,在室温下得到澄清溶液,然后转移到反应釜中,于100~200℃的温度下进行水热反应,通过严格控制溶液的H<SUP>+</SUP>浓度(10mol/L>[H<SUP>+</SUP>]>0.01mol/L)和酸的滴加速度(10mL/min>v>0.1mL/min),即可合成正交晶型的三氧化钼单晶纳米带。本发明与溶胶凝胶、溅射、电子束蒸发、化学气相沉积等方法相比,原料价廉易得,设备简单,易于实现控制;产品具有独特的尺寸和形貌,产率高,质量稳定,该产品在电、热、光等物理性质的限制传输,纳米器件,传感器制备等很多领域都有广泛的应用。 | ||
申请公布号 | CN1155524C | 申请公布日期 | 2004.06.30 |
申请号 | CN02104181.4 | 申请日期 | 2002.03.15 |
申请人 | 清华大学 | 发明人 | 李亚栋;李晓林 |
分类号 | C01G39/02 | 主分类号 | C01G39/02 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 1.一种合成三氧化钼单晶纳米带的方法,以可溶性钼酸盐为钼源,高氯酸为酸化沉淀剂,以水为介质,在室温下得到澄清溶液,其特征在于:(1)将酸化后到得的溶液放入反应釜中,加入去离子水;(2)在100~200℃的温度条件下进行水热反应,反应液的氢离子浓度控制在0.5mol/L~1mol/L,酸的滴加速度0.5mL/min~2mL/min。 | ||
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