亚波长结构的制造方法

摘要

本发明提供一种用于在衬底上制造亚波长结构的方法，其中，可变形的光致抗蚀剂布置在所述衬底的顶部上。通过在衬底上压印临界尺寸，接着借助于集成在印模中的光学结构对抗蚀剂曝光，所述临界尺寸可进一步减小。该方法包括步骤：形成由具有比所用光致抗蚀剂(12，24)大的折射系数的材料制成的亲水印模(10)，印模(10)具有波导结构(16)；b)通过使印模(10)与衬底(14)紧密接触，将波导结构(16)压印入可变形光致抗蚀剂(12，24)中；c)将光耦合进波导结构(16)内，从而形成损耗波来对光致抗蚀剂(12，24)曝光；以及d)显影光致抗蚀剂(12，24)。

主权项

1.一种用于在衬底(14)上制造亚波长结构(22，26)的方法，其中，可变形的光致抗蚀剂(12，24)布置在所述衬底(14)的顶部上，其特征在于以下步骤：a)形成由具有比所用光致抗蚀剂(12，24)大的折射系数的材料制成的亲水印模(10)，所述印模(10)携带波导结构(16)；b)通过使所述印模(10)与所述衬底(14)紧密接触，将所述波导结构(16)压印入所述可变形光致抗蚀剂(12，24)中；c)将光耦合进该波导结构(16)内，从而形成损耗波来对所述光致抗蚀剂(12，24)曝光；以及d)显影所述光致抗蚀剂(12，24)。