发明名称 METHODS AND APPARATUS FOR PLASMA DOPING AND ION IMPLANTATION IN AN INTEGRATED PROCESSING SYSTEM
摘要
申请公布号 KR20040054745(A) 申请公布日期 2004.06.25
申请号 KR20047006166 申请日期 2002.10.17
申请人 发明人
分类号 H01L21/22;H01J37/317;H01J37/32;H01L21/223;H01L21/265 主分类号 H01L21/22
代理机构 代理人
主权项
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