| 发明名称 | 清洗剂以及使用它的清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种包含0.1-60％重量氧化剂和0.0001-5％重量螯合剂的清洗剂。在生产半导体集成电路的过程中，用作蚀刻光掩模的光刻胶图案层、以及通过干蚀刻形成的光刻胶残余物容易用该清洗剂去除。在生产用于液晶显示板的基材的过程中，通过干蚀刻形成的来自导电薄膜的残余物也容易去除。在使用该清洗剂的清洗方法中，薄膜电路装置中的布线材料或绝缘材料、或用于生产半导体集成电路和液晶显示板的基材的其它材料不受腐蚀。 | ||
| 申请公布号 | CN1155055C | 申请公布日期 | 2004.06.23 |
| 申请号 | CN99802117.2 | 申请日期 | 1999.11.11 |
| 申请人 | 夏普株式会社;三菱瓦斯化学株式会社 | 发明人 | 野原正宽;桥本僚;桶谷大亥;阿部久起;丸山岳人;青山哲男 |
| 分类号 | H01L21/027;H01L21/306;C11D7/18;G03F7/42 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈季壮 |
| 主权项 | 1.一种清洗剂，由0.5-10％重量过氧化氢，0.05-1.5％重量螯合剂和水组成，其中螯合剂选自乙二胺四亚甲基膦酸，二亚乙基三胺五亚甲基膦酸，1，2-丙二胺四亚甲基膦酸和乙二胺四乙酸。 | ||
| 地址 | 日本大阪 | ||