发明名称 |
保护聚合物免受紫外光损害的聚合物制品、光稳定添加剂组合物和光稳定添加剂母料 |
摘要 |
一种聚合物制品,如挤出或模塑制品或双轴取向的带或膜,和一种稳定这种聚合物制品以保护该制品免受暴露在紫外光下引起降解的方法。该制品是这样制得的,将聚合物材料与约50至5,000ppm的至少一种邻羟基三芳基三嗪光吸收剂和约500ppm至1.25%的至少一种分子量至少约为500的低聚、聚合或高分子量HALS混合,其中HALS与三嗪光吸收剂的重量比约为3∶1至20∶1,形成稳定的聚合物组合物,从该稳定的聚合物组合物制成挤出或模塑制品或双轴取向的带或膜。 |
申请公布号 |
CN1154685C |
申请公布日期 |
2004.06.23 |
申请号 |
CN99805659.6 |
申请日期 |
1999.03.30 |
申请人 |
CYTEC技术有限公司 |
发明人 |
S-B·赛缪尔斯 |
分类号 |
C08K5/00;//(C08K5/00,5∶3492,5∶3435) |
主分类号 |
C08K5/00 |
代理机构 |
上海专利商标事务所 |
代理人 |
陈文青 |
主权项 |
1.一种聚合物制品,它包含聚合物材料、50至5,000ppm的至少一种邻羟基三芳基三嗪光吸收剂和500ppm至1.25%的至少一种分子量至少为500的低聚、聚合或高分子量的HALS,其中HALS与三嗪的重量比为3∶1至20∶1,聚合物制品是模塑制品、挤出制品或双轴取向的带或膜。 |
地址 |
美国特拉华州 |