流程卡情况下半导体设备的污染控制方法

摘要

一种Runcard情况下半导体设备的污染控制方法，首先，接收一Runcard，并取得执行母批货的设备机台的污染状态。若污染状态并非为后端共享时，则设定相应执行Runcard的制程定义与制程阶段的污染状态为执行母批货的设备机台的污染状态。当执行母批货的设备机台的污染状态为后端共享时，则取得执行母批货的制程阶段的污染状态，且当制程阶段的污染状态并非为后端或铜制程端时，则拒绝执行Runcard，若是时，则设定相应执行Runcard的制程定义与制程阶段的污染状态为执行母批货的制程阶段的污染状态。

主权项

1.一种流程卡情况下半导体设备的污染控制方法，包括下列步骤：接收一流程卡；取得执行一母批货的一设备机台的污染状态；若执行该母批货的该设备机台的污染状态并非为一后端共享时，则依据执行该母批货的设备机台的污染状态设定相应执行该流程卡的一制程定义的污染状态与一制程阶段的污染状态；当执行该母批货的设备机台的污染状态为该后端共享时，则取得执行该母批货的制程阶段的污染状态；当执行该母批货的制程阶段的污染状态并非为一后端或一铜制程端时，则拒绝执行该流程卡；以及当执行该母批货的制程阶段的污染状态为该后端或该铜制程端时，则设定相应执行该流程卡的该制程定义的污染状态与该制程阶段的污染状态为执行该母批货的制程阶段的污染状态。