| 发明名称 | 一种新型抗紫外线高分子材料的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种新型抗紫外线高分子材料的制备方法，它的方法简单，生成的产品抗紫外线性能稳定，它是将纳米氧化物与聚合单体按照重量比1.5-10∶98.5-90的比例混合，在真空下进行高速搅拌至混合均匀后，进行常规聚合。本发明不仅方法简单，而且生成的新型抗紫外线高分子材料抗紫外线性能稳定。衰减速率小，对紫外线的吸收率达50-98％。 | ||
| 申请公布号 | CN1154666C | 申请公布日期 | 2004.06.23 |
| 申请号 | CN99127130.0 | 申请日期 | 1999.12.29 |
| 申请人 | 天津市方氏化工技术有限公司 | 发明人 | 方自强 |
| 分类号 | C08F2/44 | 主分类号 | C08F2/44 |
| 代理机构 | 天津德赛律师事务所 | 代理人 | 卢枫 |
| 主权项 | 1、一种新型抗紫外线高分子材料的制备方法，其特征在于，将纳米氧化物与聚合单体按照重量比1.5-10∶98.5-90混合后，在真空下高速搅拌至混合均匀，再按照单体聚合的反应条件进行聚合交联。 | ||
| 地址 | 300192天津市鞍山西道天大科贸楼225 | ||