| 发明名称 | 处理装置、处理方法及载置部件 | ||
| 摘要 | 在处理室(12)内的载置部件(21)上，载置被处理体(W)。载置部件(21)具备电阻层(25)。电源(28)通过在设置于处理室(12)外部的感应线圈(27)中流过电流，在感应线圈(27)的周围产生磁场。电阻层(25)通过形成的磁场所产生的感应热被加热，并加热载置于载置部件(21)上的被处理体(W)。 | ||
| 申请公布号 | CN1507503A | 申请公布日期 | 2004.06.23 |
| 申请号 | CN03800169.1 | 申请日期 | 2003.04.15 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 河南博 |
| 分类号 | C23C16/46;H01L21/205 | 主分类号 | C23C16/46 |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种处理装置，其特征在于：由：处理室(12)，在内部对被处理体(W)实施规定的处理；载置部件(21)，配置在所述处理室(12)内，载置所述被处理体(W)；感应线圈(27)，设置在所述处理室(12)的外部；和电源(28)，通过在所述感应线圈(27)中流过电流，在该感应线圈(27)的周围形成磁场；构成，所述载置部件(21)具备电阻层(25)，该电阻层(25)通过形成在所述感应线圈(27)周围的磁场产生的感应热被加热，并加热载置于该载置部件(21)上的所述被处理体(W)。 | ||
| 地址 | 日本国东京都港区赤坂五丁目3番6号 | ||