| 主权项 |
1.一种微镜检测装置,用于检测一微镜元件于一承座上的倾斜度,包括:一靶面;以及一光源,该光源朝向该微镜元件射出一光束,该光束从该微镜元件反射至该靶面。2.如申请专利范围第1项所述之微镜检测装置,其中,该微镜检测装置更包括一第一夹具,该第一夹具用以夹持该承座。3.如申请专利范围第1项所述之微镜检测装置,其中,该微镜检测装置更包括一第二夹具,该第二夹具用以夹持该光源。4.如申请专利范围第1项所述之微镜检测装置,其中,该光源为一雷射。5.如申请专利范围第1项所述之微镜检测装置,其中,该靶面之材质为纸。6.如申请专利范围第1项所述之微镜检测装置,其中,该光源设于该靶面之上。7.一种承座平行度检测方法,包括下述步骤:将一标准镜设于该承座之一微镜承靠面;利用一光源朝向该标准镜射出一光束,该光束从该标准镜反射至一靶面,并在该靶面上投射出一第一光点;调整该光源之位置,使该第一光点投射至一基准点;将该标准镜设于该承座之一镜头承靠面,该光束从该标准镜反射至该靶面,并在该靶面上投射出一第二光点;量测该第二光点相对于该基准点的位置;以及计算该微镜承靠面与该镜头承靠面的平行度。8.如申请专利范围第7项所述之承座平行度检测方法,其中,该光源为一雷射。9.如申请专利范围第7项所述之承座平行度检测方法,其中,该靶面之材质为纸。10.如申请专利范围第7项所述之承座平行度检测方法,其中,该承座利用一第一夹具夹持。11.如申请专利范围第7项所述之承座平行度检测方法,其中,该光源设于该靶面之上。12.如申请专利范围第7项所述之承座平行度检测方法,其中,该光源利用一第二夹具夹持。13.如申请专利范围第12项所述之承座平行度检测方法,其中,调整该光源之位置,使该第一光点投射至该基准点之步骤,乃藉由调整该第二夹具而调整该光源之位置。14.一种微镜检测方法,包括下述步骤:将一微镜元件设于一承座之一微镜承靠面;利用一光源朝向该微镜元件射出一光束,该光束从该微镜元件反射至一靶面,并在该靶面上投射出一第二光点;量测该第二光点相对于一基准点的距离X;以及计算该微镜元件于该承座上的倾斜度。15.如申请专利范围第14项所述之微镜检测方法,其中,在将该微镜元件设于该承座之该微镜承靠面之步骤之前,更包括下述步骤:将一标准镜设于该承座之该微镜承靠面;利用该光源朝向该标准镜射出该光束,该光束从该标准镜反射至该靶面,并在该靶面上投射出一第一光点;调整该光源之位置,使该第一光点投射至该基准点。16.如申请专利范围第14项所述之微镜检测方法,其中,更包括一量测该光源与该微镜元件之间距离Y的步骤。17.如申请专利范围第16项所述之微镜检测方法,其中,计算该微镜元件于该承座上的倾斜度的步骤,乃利用该光源与该微镜元件之间距离Y以及该第二光点相对于一基准点的距离X,以三角函数计算而达成。18.如申请专利范围第17项所述之微镜检测方法,其中,, 为该微镜元件于该承座上的倾斜角。19.如申请专利范围第14项所述之微镜检测方法,其中,该光源为一雷射。20.如申请专利范围第14项所述之微镜检测方法,其中,该靶面之材质为纸,其上绘有刻度。21.如申请专利范围第14项所述之微镜检测方法,其中,该承座利用一第一夹具夹持。22.如申请专利范围第14项所述之微镜检测方法,其中,该光源设于该靶面之上。23.如申请专利范围第14项所述之微镜检测方法,其中,该光源利用一第二夹具夹持。24.如申请专利范围第15项所述之微镜检测方法,其中,调整该光源之位置,使该第一光点投射至该基准点之步骤,乃藉由调整该第二夹具而调整该光源之位置。图式简单说明:第1a图系显示习知承座之立体;第1b图系显示习知承座之后侧视图;第2a图系显示本发明之微镜检测装置之示意图;第2b图系显示本发明之微镜检测装置之靶面的示意图;第3a图系显示本发明之微镜检测装置之示意图;第3b图系显示本发明之微镜检测装置之夹具的示意图;第4图系显示本发明之倾斜度计算方式之辅助说明图。 |
