| 主权项 |
1.一种制造经表面修饰之碳黑的方法,其包含下列步骤:将含有表面羧基之碳黑于足够在碳黑表面上产生卤化酸基的条件下和亚硫醯卤化物反应;及将表面上含有卤化酸基的碳黑和一种立体引导化合物反应,以提供经表面修饰之碳黑。2.根据申请专利范围第1项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中和亚硫醯卤化物反应的碳黑,每克碳黑具有0.5到1.5毫当量COOH的酸値。3.根据申请专利范围第1项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中该亚硫醯卤化物包括亚硫醯氯。4.根据申请专利范围第1项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中该碳黑在有溶剂出现下和亚硫醯卤化物反应。5.根据申请专利范围第4项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中该溶剂包括二氯甲烷。6.根据申请专利范围第4项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中该溶剂包括甲苯。7.根据申请专利范围第1项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中该立体引导化合物为一种单烷氧基末端聚烯二醇化合物。8.根据申请专利范围第7项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中该立体引导化合物包含一种有2到6个碳原子的羟基及一种有1到6个碳原子的烷氧基。9.根据申请专利范围第7项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中该立体引导化合物包括一种具有重量平均分子重量从100到1000范围之乙二醇化合物。10.根据申请专利范围第7项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中该立体引导化合物包含二醇化合物,其包括甲氧聚乙二醇及聚(乙二醇)四氟糠基醚。11.根据申请专利范围第1项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中该立体引导化合物为一种单胺末端化合物。12.根据申请专利范围第11项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中该单胺末端化合物包括一种杰弗明(Jeffamine)衍生物。13.根据申请专利范围第1项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中该立体引导化合物包括含单羟化合物,如2-羟基乙基咯酮,2-羟基乙基吗福及2-羟基乙基-氧氮二烯五环酮。14.根据申请专利范围第1项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中该经表面修饰之碳黑,每克碳黑具有从0.1到0.7毫当量COOH范围的酸値。15.根据申请专利范围第1项之制造经表面修饰之碳黑的方法,其中该经表面修饰之碳黑具有平均粒子大小从80到200奈米的范围。16.一种经表面修饰之碳黑,其系根据申请专利范围第1项之制造经表面修饰之碳黑的方法所制造。17.一种使用在喷墨印表机墨水组成的经表面修饰之碳黑,该碳黑具有含立体引导基附于其表面上之并且每克碳黑具有从0.1到0.7毫当量COOH范围的酸値。18.根据申请专利范围第17项之经表面修饰之碳黑,其中平均粒子大小从80到200奈米的范围。19.根据申请专利范围第17项之经表面修饰之碳黑,其中该立体引导基是从一种立体引导化合物衍生而来,该立体引导化合物系由从单烷氧末端聚烯二醇,单胺末端聚烃二醇化合物,2-羟基乙基咯酮,2-羟基乙基吗福及2-羟基乙基-氧氮二烯五环酮所组成之群中选择。 |
