发明名称 用于高精密度抛光之金属氧化物粉末及其制备方法
摘要 本发明系关于一种用于高精密度抛光之金属氧化物粉末及其制备,其包含一由一级粒子之内聚而形成之聚集物,其具有1.1至2.0的内聚度(α)及3至10的内聚等级(β),该内聚度(α)及内聚等级(β)可各别由式(I)及式(II)所定义:α=6/(S×ρ×d(XRD)) (I)β=重量平均粒子直径/d(XRD) (II)其中,S为比表面积粉末;ρ为密度;及d(XRD)为由X-射线绕射分析所测量的粉末粒子直径。根据本发明,其可提供高抛光速度且减少刮伤。
申请公布号 TW593652 申请公布日期 2004.06.21
申请号 TW092115047 申请日期 2003.06.03
申请人 三星康宁股份有限公司 发明人 权赫真;安明镐;郑永权;李鳞渊
分类号 C09K3/14 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种包含由一级粒子的内聚所形成之聚集物的金属氧化物粉末,其具有1.1至2.0的内聚度(a)及3至10的内聚等级(),内聚度()及内聚等级()可各别由式(I)及式(II)所定义:=6/(Spd(XRD)) (I)=重量平均粒子直径/d(XRD) (II)其中,S为比表面积粉末;为密度;及d(XRD)为由X-射线绕射分析所测量的粉末粒子直径。2.如申请专利范围第1项之金属氧化物粉末,其中各别的一级粒子平均内聚地黏结至2至3个毗连的一级粒子。3.如申请专利范围第1项之金属氧化物粉末,其中该金属氧化物选自于由氧化铝、二氧化矽、二氧化铈、氧化锆、氧化锡、氧化锰及其混合物所组成群。4.如申请专利范围第1项之金属氧化物粉末,其中该金属氧化物粉末的平均粒子直径范围从10至200奈米。5.一种用来制备如申请专利范围第1项之金属氧化物粉末的方法,其包括将一稀释剂与一金属氧化物前驱物混合,以产生一具有稀释剂含量范围为40至70重量%的混合物;研磨该混合物;煆烧该经研磨的混合物;及藉由水冲洗以从该经煆烧的混合物中移除该稀释剂。6.如申请专利范围第5项之方法,其中该金属氧化物前驱物为选自于由Al、Ce、Si、Zr、Ti、Mn、Sn及Zn所组成之群的金属其氢氧化物、碳酸盐、硝酸盐、氯化物、醋 酸盐、水合物、醇盐或硫醚。7.如申请专利范围第5项之方法,其中该稀释剂选自于由K2CO3.NaCl、CaCl2.MgCl2.Na2SO4.Na2CO3.Ca(OH)2.KCl、K2SO4及其混合物所组成之群。8.如申请专利范围第5项之方法,其中进行该水冲洗直到该冲洗水的导电度变成10S/公分或较少。9.一种抛光剂,其包含如申请专利范围第1至4项中任何一项之金属氧化物粉末。图式简单说明:第1A-1C图:具有不同一级粒子与内聚状态的金属氧化物粒子之形状图;第2图:在本发明之实例1中所制备的粉末样品(1-2)之穿透式电子显微镜(TEM)相片;第3图:在实例1中所制备的比较用粉末样品(1-4)之TEM相片;及第4图:在本发明之实例2中所制备的粉末样品之TEM相片。
地址 韩国