| 主权项 |
1.一种高流动丙烯嵌段共聚物,其包括自50至80重量%的丙烯同元聚合物和自20至50重量%的丙烯共聚物其中含有自10至70重量%之与丙烯不同之经共聚C2-C8-烯-1-烃,系由使用齐格勒-那塔触媒系统自气相中之两阶段聚合可获得,其中,在第一聚合阶段中,丙烯系在于以总体积为基准至少2.0体积%的氢存在下,在自10至50巴之压力和自50至100℃之温度下及自0.3至5小时之反应混合物的平均滞留时间予以聚合,然后将第一聚合阶段所获得之丙烯同元聚合物连同齐格勒-那塔触媒系统引入一个中间容器中,首先在其中减压至低于5巴历自0.01至5分钟并维持在自10至80℃,随后将中间容器中之压力经由注射入一种气体混合物而再增加约自5至60巴,然后将丙烯同元聚合物连同齐格勒-那塔触媒系统转移至第二聚合阶段在其中,将丙烯与C2-C8-烯-1-烃之混合物在自10至50巴之压力和自50至100℃之温度下及自0.5至5小时的平均滞留时间时予以聚合在丙烯同元聚合物上,第一聚合阶段中起反应之单体:第二聚合阶段中起反应之单体的重量比是在自4:1至1:1之范围内。2.如申请专利范围第1项之高流动丙烯嵌段共聚物,其在230℃下,在2.16仟克之重量下之熔体流速(MFR),依照ISO 1133所测得者,下列关系(Ⅰ):(Ⅰ)MFR≧101.39 + 0.0787*XS2 - 5.4674*XS其中XS是以总丙烯嵌段共聚物为基准之百分数计,丙烯共聚物的比例。3.如申请专利范围第1项或第2项之高流动丙烯嵌段共聚物,其中所使用之齐格勒-那塔触媒系统包括一种含钛之固体组份,特别包括一种含卤素之镁化合物、一种电子给予体及作为载体之一种无机氧化物及亦一种铝化合物及一种另外之电子给予体化合物。4.如申请专利范围第1项或第2项之高流动丙烯嵌段共聚物,其中将丙烯在第一聚合阶段中在自15至40巴之压力和自60至90℃之温度下聚合。5.如申请专利范围第1项或第2项之高流动丙烯嵌段共聚物,其中,将每仟克之丙烯同元聚合物自0.001至10克(以丙烯同元聚合物为基准)之C1-C8-烷醇加至中间容器中。6.如申请专利范围第1项或第2项之高流动丙烯嵌段共聚物,其中,在减压后,将中间容器中之压力经由注射入一种气体混合物而再度增加至约自10至40巴。7.如申请专利范围第1项或第2项之高流动丙烯嵌段共聚物,其中将丙烯和C2-C8-烯-1-烃的混合物在自10至40巴之压力及自60至90℃之温度下在第二聚合阶段中相互聚合。8.一种用于制备如申请专利范围第1项或第2项之高流动丙烯嵌段共聚物之方法,系经由使用齐格勒-那塔触媒系统自气相中之两阶段聚合可获得,其中,在第一聚合阶段中,丙烯系在于以总体积为基准至少2.0体积%的氢存在下,在自10至50巴之压力和自50至100℃之温度下及自0.3至5小时之反应混合物的平均滞留时间予以聚合,然后将第一聚合阶段中所获得之丙烯同元聚合物连同齐格勒-那塔触媒系统引入一个中间容器中,首先在其中减压至低于5巴历自0.01至5分钟并维持在自10至80℃,随后将中间容器中之压力经由注射入一种气体混合物而再增加约自5至60巴,然后将丙烯同元聚合物连同齐格勒-那塔触媒系统转移至第二聚合阶段在其中,将丙烯与C2-C8-烯-1-烃之混合物在自10至50巴之压力和自50至100℃之温度下及自0.5至5小时的平均滞留时间时予以聚合在丙烯同元聚合物上,第一聚合阶段中起反应之单体:第二聚合阶段中起反应之单体的重量比是在自4:1至1:1之范围内。9.如申请专利范围第1项或第2项之高流动丙烯嵌段共聚物,其系用以制造薄膜、纤维或模制物。10.一种薄膜、纤维或模制物,其包括如申请专利范围第1项或第2项之高流动丙烯嵌段共聚物。 |
