| 主权项 |
1.一种涂布方法,其为涂布处理液体于构件表面之方法,其特征为该处理液体成液滴而涂布于该构件表面上的同时,可配合该构件表面的形状、将该表面分割成复数个区域,进而控制各区域的涂布量者。2.如申请专利范围第1项之涂布方法,其中该复数区域中,与其他区域相比,对垂直方向而言,使上方位置区域之该处理液体的涂布量较为多者。3.如申请专利范围第2项之涂布方法,其中该构件的涂布面对垂直方向为向上凸形状时,该曲面分割成略同心状的复数区域,该复数区域中,与外侧区域相比,使内侧区域的该处理液体的涂布量较为多者。4.如申请专利范围第2项之涂布方法,其中该构件的涂布面对垂直方向为向上凹形状时,该曲面分割成略同心状的复数区域,该复数区域中,与内侧区域相比,使外侧区域的该处理液体的涂布量较为多者。5.如申请专利范围第1项或第2项之涂布方法,其中变化该液滴之每一滴的体积或重量、及该液滴之弹着间隔中至少一项,进而控制该涂布量者。6.如申请专利范围第1项或第2项之涂布方法,其中重复变数次涂布该处理液体于该构件表面上之同时,该重复涂布的次数设定为该复数区域数。7.一种涂布装置,其为涂布处理液体于构件表面上之装置,其特征为具备将该装置液体成液滴而吐出之液体吐出头、与由该液体吐出头控制液滴吐出之控制吐出装置、该控制吐出装置为配合该构件表面之形状,将该表面分割成复数个区域,进而控制各区域的涂布量。8.如申请专利范围第7项之涂布装置,其中该控制吐出装置为,变化由该液体吐出头的液滴之每一滴的体积或重量,及该液滴之弹着间隔中至少一项,进而控制该涂布量者。9.如申请专利范围第7项或第8项之涂布装置,其中该控制吐出装置为,重复数次涂布该处理液体于该构件表面上之同时,该重复涂布的次数设定为该复数区域数。10.一种光学构件,其特征为具备使用如申请专利范围第7项至第9项中任一项之涂布装置,涂布处理液体之表面。11.一种光学装置,其特征为具备如申请专利范围第10项之光学构件。图式简单说明:图1为,本发明之涂布装置的实施型态例示透视图。图2为,本发明之涂布方法及涂布装置的实施型态例示模式图,(a)为侧面图,(b)为平面图。图3为,本发明之涂布方法及涂布装置的实施型态他例模式图,(a)为侧面图,(b)为平面图。图4为,在各分割区域上变更涂布次数,将处理液体涂布于构件之曲面的例示模式图。图5为,在各分割区域上变更涂布次数,将处理液体涂布于构件之曲面的他例模式图。图6为,以压电方式将液体吐出之原理的说明图。图7为,驱动信号授与压电元件之例示,分别表示微小圆点,中圆点,大圆点等三种体积不同之液滴吐出时之驱动信号。图8为,驱动信号授与压电元件之他例,表示单位时间内较多液滴吐出时之驱动信号。图9为,在各分割区域上变更位标志数据之例示模式图。图10为,涂布装置之他型态例示图。图11为,图10之涂布装置所具备液体吐出头的示意图。图12为,本发明之光学装置,适用于眼镜之例示图。图13为,本发明之光学装置,适用于照相机之例示图。图14为,本发明之光学装置,适用于投影机之例示图。 |
