主权项 |
1.一种反射型液晶显示器之反射板制造方法,系于一玻璃基板表面完成薄膜电晶体后,制作树脂凸型结构前先形成一层金属层,以隔离曝光过程中来自曝光机平台的光反射,并利用金属层的均匀反射作用,缩短曝光时间。2.如申请专利范围第1项所述反射型液晶显示器之反射板制造方法,系用以制作全反射式的反射板,其包括有:一透明电极镀膜步骤,系于已完成薄膜电晶体制作的玻璃基板进行透明电极镀膜;一隔离金属层镀膜步骤,系于透明电极镀膜表面镀上一层隔离用金属层;一透明电极与隔离金属层之图形定义步骤,系经由光阻涂布、曝光、显影及蚀刻等,以定义出画素图形;一涂布光阻步骤,利用树脂材料构成的光阻涂布于金属层表面;一曝光显影步骤,去除非图案部分之树脂;一反射金属层镀膜步骤。3.如申请专利范围第1项所述反射型液晶显示器之反射板制造方法,系用以制作半穿透式的反射板,除包括「透明电极镀膜」、「隔离金属层镀膜」、「透明电极与隔离金属层图形定义」、「涂布光阻」、「曝光显影」及「反射金属层镀膜」等步骤外,进一步进行一蚀刻步骤,去除非图案部分的隔离金属层与反射金属层而形成透光区。4.一种反射型液晶显示器之反射板,系于一玻璃基板上分设有薄膜电晶体、透明电极及一树脂凸型结构,其中透明电极与树脂凸型结构间于画素区内分别具有一隔离金属层。5.如申请专利范围第4项所述反射型液晶显示器之反射板,该玻璃基板上于各隔离金属层与树脂凸型结构间分别形成有透光区。6.一种反射型液晶显示器之反射板制造方法,系于一玻璃基板制作薄膜电晶体时同时在画素区内形成一隔离金属层,以便玻璃基板在随后的树脂凸型结构制程中,以隔离曝光过程中来自曝光机平台的光反射。7.如申请专利范围第6项所述反射型液晶显示器之反射板制造方法,该玻璃基板系于薄膜电晶体制程中利用制作闸极电极的金属层经由图形定义,以同时完成闸极电极与隔离金属层。8.如申请专利范围第6项所述反射型液晶显示器之反射板制造方法,该玻璃基板系于薄膜电晶体制程中利用制作源/汲极电极的金属层经由图形定义,以同时完成闸极电极与隔离金属层。9.如申请专利范围第7或8项所述反射型液晶显示器之反射板制造方法,该玻璃基板系用以制作全反射式的反射板,并进行「透明电极镀膜」、「透明电极图形定义」、「涂布光阻」、「曝光显影」及「反射金属层镀膜」等步骤。10.如申请专利范围第7或8项所述反射型液晶显示器之反射板制造方法,该玻璃基板系用以制作半穿透式的反射板,并进行「透明电极镀膜」、「透明电极图形定义」、「涂布光阻」、「曝光显影」、「反射金属层镀膜」、「蚀刻形成透光区」等步骤。11.一种反射型液晶显示器之反射板,系于一玻璃基板上分设有薄膜电晶体、透明电极及树脂凸型结构,其中薄膜电晶体各层薄膜中同时具备一位于画素区内的隔离金属层。12.如申请专利范围第11项所述反射型液晶显示器之反射板,该隔离金属层系与薄膜电晶体中的闸极电极位于同一层。13.如申请专利范围第11项所述反射型液晶显示器之反射板,该隔离金属层系与薄膜电晶体中的源/汲电极位于同一层。14.如申请专利范围第11.12或13项所述反射型液晶显示器之反射板,该玻璃基板上的各树脂凸型结构间形成有透光区,而构成一半穿透式反射板。图式简单说明:第一图A~D:系本发明第一较佳实施例之制程步骤示意图。第二图A~D:系本发明第二较佳实施例之制程步骤示意图。第三图A~C:系本发明第三较佳实施例之制程步骤示意图。第四图A~C:系本发明第四较佳实施例之制程步骤示意图。第五图A~C:系本发明第五较佳实施例之制程步骤示意图。第六图A~C:系本发明第六较佳实施例之制程步骤示意图。第七图A~C:系习用半穿透式反射板之制程步骤示意图。第八图A~C:系习用全反射式反射板之制程步骤示意图。 |