| 主权项 |
1.一种抗污剂,系具有下列通式(I)所示之化合物:式中R1及R2可相同或不同且分别代表氢或C1-10直链或分枝烷基,A代表可经C1-4烷基取代之伸苯基或式之基(其中R6及R7分别独立代表氢原子或C1-6直链或分枝烷基,m表示1至6之整数,及x表示0至35之整数),R3代表氢原子或C1-6直链或分枝烷基,R4及R5可相同或不同且分别代表氢原子、C1-6直链或分枝烷基或下式之基:,或式中R1.R2.R3及A如前述定义,及y表示1至3之整数;以及n为1至3之整数。2.如申请专利范围第1项之抗污剂,其中式-(CH2-NR3-A-NR4R5)基系位于苯环上相对于羟基为邻位及/或对位者。3.如申请专利范围第1项之抗污剂,其中R1及R2各独立为第三丁基或壬基,及R3为氢或甲基者。4.如申请专利范围第1项之抗污剂,系由式所示之酚类化合物(式中R1及R2如申请专利范围之定义)、甲醛及式HNR3-A-NR4R5之胺(式中R3及A如申请专利范围第1项之定义,及R4及R5分别独立代表氢原子、C1-6直链或分枝烷基)进行Mannich反应而制得。5.如申请专利范围第4项之抗污剂,其中酚类化合物系选自酚、甲基酚、二甲基酚、第三丁基酚、二-第三丁基酚、壬基酚所组成之组群。6.如申请专利范围第4项之抗污剂,其中胺系选自下式之聚醚胺所成之组群:(x如申请专利范围第1项之定义)。7.如申请专利范围第1至6项任一项之抗污剂,系用于石化或炼油厂之抗污剂者。图式简单说明:第1图为实施例1所得产物之NMR图谱。第2图为实施例10所得产物之NMR图谱。第3图为实施例15所得产物之NMR图谱。第4图为实施例23所得产物之NMR图谱。 |
