发明名称 耐溶剂雷射全像图案薄膜及其制法
摘要 一种耐溶剂雷射全像图案薄膜及其制法,系一塑胶膜结合一UV树脂膜,该UV树脂膜具有雷射全像图案;该雷射全像图案的外表结合一具有高折射率材料的蒸镀层;该塑胶膜及该蒸镀层的另一面分别结合一耐化性佳的UV树脂膜。本发明能较省成本及较快速的制造雷射全像图案薄膜,且薄膜对于各种溶剂具有良好的抵抗性,能克服目前一般全像图案膜产品耐溶剂性不佳,易造成雷射全像图案消失的问题。五、(一)、本案代表图为:第1E图(二)、本案代表图之元件代表符号简单说明:塑胶模11UV树脂膜12雷射全像图案121 蒸镀层13 UV树脂膜14、15
申请公布号 TW592950 申请公布日期 2004.06.21
申请号 TW092122577 申请日期 2003.08.15
申请人 光群雷射科技股份有限公司 发明人 萧聪明;赖明兴
分类号 B32B15/08 主分类号 B32B15/08
代理机构 代理人 王明昌 台北市文山区木栅路四段一四九巷三号八楼
主权项 1.一种耐溶剂雷射全像图案薄膜的制法,包括如下步骤:(1)在一塑胶膜上涂布一UV树脂膜;(2)使该UV树脂膜与与一刻有雷射全像图案的金属轮紧密贴合;并以UV灯由照射与该金属轮紧密贴合的UV树脂膜,使该UV树脂膜熟成硬化与该塑胶膜紧密结合,并使该UV树脂膜与该金属轮相分离;俾该金属轮上的雷射全像图案被复制到该UV树脂膜上,使该塑胶膜成为具有雷射全像图案的塑胶薄膜半成品;(3)使该塑胶薄膜半成品的雷射全像图案外表结合一具有高折射率材料的蒸镀层;(4)在该塑胶薄膜半成品的两面,分别涂布一层耐化性佳的UV树脂膜,再照射UV灯,使该耐化性佳的UV树脂膜瞬间熟成硬化;俾使该塑胶薄膜半成品成为一耐溶剂雷射全像图案薄膜。2.一种耐溶剂雷射全像图案薄膜的制法,包括如下步骤:(1)在一塑胶膜上涂布一UV树脂膜;(2)使该UV树脂膜与与一具有雷射全像图案的母膜贴合,使UV树脂膜与该雷射全像图案紧密贴合;再照射UV灯,使该UV树脂膜熟成硬化与该塑胶膜紧密结合,并使该UV树脂膜与该母膜相分离;俾该母膜上的雷射全像图案被复制到该UV树脂膜上,使该塑胶膜成为具有雷射全像图案的塑胶薄膜半成品;(3)使该塑胶薄膜半成品的雷射全像图案外表结合一具有高折射率材料的蒸镀层;(4)在该塑胶薄膜半成品的两面,分别涂布一层耐化性佳的UV树脂膜,再照射UV灯,使该耐化性佳的UV树脂膜瞬间熟成硬化;俾使该塑胶薄膜半成品成为一耐溶剂雷射全像图案薄膜。3.如申请专利范围第1项所述之耐溶剂雷射全像图案薄膜的制法,其中该塑胶膜被一压轮压向该金属轮,俾使该UV树脂膜与该金属轮紧密贴合。4.如申请专利范围第1或2项所述之耐溶剂雷射全像图案薄膜的制法,其中该高折射率材料是选自铝、硫化锌及氧化钛中之一者。5.如申请专利范围第2项所述之耐溶剂雷射全像图案薄膜的制法,其中该母膜及塑胶膜的外侧分别被一压轮向内压合,俾使该UV树脂膜与该母膜密贴合。6.一种耐溶剂雷射全像图案薄膜,包括一塑胶膜结合一UV树脂膜,该UV树脂膜具有雷射全像图案,该雷射全像图案的外表结合一具有高折射率材料的蒸镀层,该塑胶膜及该蒸镀层的另一面分别结合一耐化性佳的UV树脂膜。7.如申请专利范围第6项所述之耐溶剂雷射全像图案薄膜,其中该高折射率材料是选自铝、硫化锌及氧化钛中之一者。图式简单说明:图1A-图1E为本发明第一实施例的制造过程示意图。图2A-图2C为本发明第二实施例的部分制造过程示意图。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路一号