| 主权项 |
1.一种彩色滤光片制造方法,该彩色滤光片至少包 括一基板与复数个薄膜,该方法至少包含下列步骤 : (a)放置该基板和一遮罩于一真空镀膜机中,其中该 遮罩暴露出该基板部分表面; (b)使用该遮罩为罩幕,于该暴露之基板表面镀一薄 膜层; (c)移动该遮罩使该基板暴露出该欲镀薄膜层之部 分表面;以及 重复(b)至(c)步骤至镀完该彩色滤光片复数层薄膜 。2.如申请专利范围第1项所述之彩色滤光片制造 方法,其中该遮罩可以矽晶圆作为材料。3.如申请 专利范围第1项所述之彩色滤光片制造方法,其中 移动该遮罩可顺时钟旋转。4.如申请专利范围第1 项所述之彩色滤光片制造方法,其中移动该遮罩可 逆时钟旋转。5.如申请专利范围第1项所述之彩色 滤光片制造方法,其中于该暴露之基板表面镀该薄 膜层可使用溅镀之方法。6.如申请专利范围第1项 所述之彩色滤光片制造方法,其中于该暴露之基板 表面镀该薄膜层可使用蒸镀之方法。7.如申请专 利范围第1项所述之彩色滤光片制造方法,其中该 薄膜层可为带通或带止光学滤光薄膜。8.如申请 专利范围第1项所述之彩色滤光片制造方法,其中 该薄膜层可为高通或低通光学滤光薄膜。9.如申 请专利范围第1项所述之彩色滤光片制造方法,其 中该薄膜层可为抗反射光学增透薄膜。10.如申请 专利范围第1项所述之彩色滤光片制造方法,其中 该遮罩造成该基板上之该薄膜层由该遮罩之阴影 效应所造成之区域宽度小于0.3毫米(mm)。11.一种彩 色滤光片制造方法,该方法至少包含下列步骤: (a)放置该基板和一遮罩于一真空镀膜机中,其中该 遮罩具镂空部分并置于该基板表面上,以暴露出该 基板部分表面; (b)使用该遮罩为罩幕,于该暴露之基板表面镀一薄 膜层; (c)移动遮罩使该基板暴露出该欲镀薄膜层之部分 表面;以及 重复步骤(b)至(c)至镀完该彩色滤光片所需之薄膜 。12.如申请专利范围第11项所述之彩色滤光片制 造方法,其中该遮罩镂空部分之形状与滤光片之形 状有关。13.如申请专利范围第11项所述之彩色滤 光片制造方法,其中该遮罩可以矽晶圆作为材料。 14.如申请专利范围第11项所述之彩色滤光片制造 方法,其中移动该遮罩可顺时钟旋转。15.如申请专 利范围第11项所述之彩色滤光片制造方法,其中移 动该遮罩可逆时钟旋转。16.如申请专利范围第11 项所述之彩色滤光片制造方法,其中于该暴露之基 板表面镀一薄膜层可使用溅镀之方法。17.如申请 专利范围第11项所述之彩色滤光片制造方法,其中 于该暴露之基板表面镀一薄膜层可使用蒸镀之方 法。18.如申请专利范围第11项所述之彩色滤光片 制造方法,其中该遮罩造成该基板上之该薄膜层由 该遮罩之阴影效应所造成之区域宽度小于0.3毫米( mm)。19.如申请专利范围第11项所述之彩色滤光片 制造方法,其中该薄膜层可为带通或带上光学滤光 薄膜。20.如申请专利范围第11项所述之彩色滤光 片制造方法,其中该薄膜层可为高通或低通光学滤 光薄膜。21.如申请专利范围第11项所述之彩色滤 光片制造方法,其中该薄膜层可为抗反射光学增透 薄膜。图式简单说明: 第一图所示为具蓝色(B)、绿色(G)和红色(R)之滤光 片。 第二A图至第二C图所示为传统上利用微影制程形 成蓝色滤光片之概略图。 第三A图至第三C图所示为传统上利用微影制程形 成绿色滤光片之概略图。 第四A图至第四C图所示为传统上利用微影制程形 成红色滤光片之概略图。 第五A图所示为本发明所使用之镀膜机之坩锅、靶 材、基板与遮罩概略装置图。 第五B所示为遮罩与彩色滤光片基板间之部分放大 图,w为遮罩所产生之阴影效应的宽度。 第六A图至第六C图所示为本发明第一较佳实施例 所使用遮罩之概略设计图。 第六D图所示为本发明第一较佳实施例所形成之具 蓝色(B)、绿色(G)和红色(R)之彩色滤光片。 第七A图至第七C图所示为本发明第二较佳实施例 所使用遮罩之概略设计图。 第七D图所示为本发明第二较佳实施例所形成之具 蓝色(B)、绿色(G)和红色(R)之彩色滤光片。 |
