发明名称 远紫外线曝光用正型光阻剂组成物
摘要 本发明系提供一种具有高解像力、半色调相位差偏移遮光罩适性(旁瓣(side lobe)光耐性)佳之远紫外线曝光用正型光阻剂组成物。本发明之远紫外线曝光用正型光阻剂组成物,其特征为含有(A)藉由活性光线或放射线照射产生酸之化合物、(B-1)具有至少一种选自第1特定构造及第2特定构造所示重覆单位与具第3特定构造之重覆单位、且具有藉由酸作,用分解之基的聚合物、(B-2)具有第4特定构造之重覆单位、且具有藉由酸作用分解之基的聚合物。
申请公布号 TW594408 申请公布日期 2004.06.21
申请号 TW090103791 申请日期 2001.02.20
申请人 富士照相软片股份有限公司 发明人 佐藤健一郎;儿玉邦彦;阿出川丰;青合利明
分类号 G03F7/039;C07C69/753 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼;何秋远 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种远紫外线曝光用正型光阻剂组成物,其特征 为具有(A)占全部固体成分0.001~40重量%的藉由活性 光线或放射线照射产生酸之化合物, (B-1)占全部固体成分5~98重量%的具有至少一种选自 下述一般式(Ia)及一般式(Ib)所示之重复单位与下 述一般式(II)所示之重复单位且具有藉由酸作用分 解之基的聚合物, (B-2)占全部固体成分2~95重量%的具有下述一般式(pA )所示之重复单位且具有藉由酸作用分解之基的聚 合物, (式(Ia)中,R1.R2系各表示独立的氢原子、氰基、羟 基、-COOH、-COOR5.-CO-NH-R6.-CO-NH-SO2-R6.可经取代的烷 基、烷氧基或环状烃基、或下述-Y基; X系表示氧原子、硫原子、-NH-、-NHSO2-或-NHSO2NH-;其 中,R5系表示可经取代的烷基、环状烃基或下述-Y 基;R6系表示可经取代的烷基或环状烃基; A系表示单键或2价连结基; -Y基系为 (其中,R21~R30系各表示独立的氢原子或可具取代基 之烷基,a、b系表示1或2); 式(Ib)中、Z2系表示-O-或-N(R3)-;R3系表示氢原子、羟 基或-OSO2-R4;R4系表示烷基、卤化烷基、环烷基或 樟脑残基; 式(II)中, R11.R12系各表示独立的氢原子、氰基、卤素原子、 或可具取代基之烷基; Z系含有键结2个碳原子(C-C)、为形成可具取代基之 脂环式构造的原子团) (其中,R系表示氢原子、卤素原子或具有碳数1~4个 碳原子之经取代或未经取代的直链或支链的烷基; 数个R可为相同或不同者;A系表示单键、单独选自 伸烷基、经取代伸烷基、醚基、硫醚基、羰基、 酯基、醯胺基、醯胺基、胺基甲酸酯基、或 基所成群者或组合2种以上者; Ra系表示下述一般式(pI)~(pVI)之任一基) (其中,R111系表示甲基、乙基、正丙基、异丙基、 正丁基、异丁基或第2-丁基;Z系表示碳原子与形成 脂环式烃基之必要原子团;R112~R116系各表示独立的 碳数1~4个直链或支链烷基或脂环示烃基,惟R112~R116 中至少一个或R115.R116中任一个为脂环示烃基;R117~R 121系各表示独立的碳数1~4个之直链或支链烷基或 脂环示烃 基,惟R117~R121中至少一个为脂环示烃基,而且R119.R 121中任一个为碳数1~4个之直链或支链烷基或脂环 示烃基;R122~R125系各表示独立的碳数1~4个之直链或 支链烷基或脂环示烃基;惟R122~R125中至少一个为脂 环示烃基)。2.如申请专利范围第1项之远紫外线曝 光用正型光阻剂组成物,其中,一般式(II)中之Z系含 有键结2个碳原子(C-C)、为形成可具取代基之脂环 式构造的原子团。3.如申请专利范围第1项之远紫 外线曝光用正型光阻剂组成物,其中,一般式(II)系 为下述一般式(II-A)或(II-B), (其中,式(II-A)、(II-B)中,R13~R16系各位独立的氢原子 、卤素原子、氰基、-COOH、-COOR5(R5系与上述者同 义)、藉由酸作用分解之基、-C(=O)-X-A-R17.或可具取 代基之烷基或环状烃基;且R13~R16至少2个键结以形 成环;n系表示0或1;此处,X、A系各与上述同义;R17系 为-COOH、-COOR5.-CN、氰基、可具取代基之烷氧基、- CO-NH-R6.-CO-NH-SO2-R6(R5.R6系各与上述同义)或上述之-Y 基)。
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