| 主权项 |
1.一种磁碟用基板之研磨用组成物,其特征为,使用 于磁碟用基板之研磨加工之研磨用组成物,其含有 (a)至少一种选自苹果酸、乙醇酸、琥珀酸、柠檬 酸、马来酸、衣康酸、丙二酸、亚胺乙酸、葡糖 酸、乳酸、苦杏仁酸、巴豆酸、烟酸、硝酸铝、 硫酸铝及硝酸铁(Ⅲ)之化合物所形成之加工促进 剂,及 (b)至少一种选自聚乙烯基咯烷酮、聚环氧乙烷 山梨糖醇酐脂肪酸酯及聚环氧乙烷山梨糖醇脂肪 酸酯之化合物所形成之平面下垂抑制剂,及 (c)至少一种选自氧化铝、二氧化矽、氧化铈、氧 化锆、氧化钛、氮化矽及碳化矽之研磨材料,及 (d)水。2.如申请专利范围第1项之磁碟用基板之研 磨用组成物,其中该(b)中之聚环氧乙烷山梨糖醇酐 脂肪酸酯及聚环氧乙烷山梨糖醇脂肪酸酯系至少 一种选自单月桂酸聚环氧乙烷山梨糖醇酐、单棕 榈酸聚环氧乙烷山梨糖醇酐、单硬脂酸聚环氧乙 烷山梨糖醇酐、单油酸聚环氧乙烷山梨糖醇酐、 三油酸聚环氧乙烷山梨糖醇酐、单辛酸聚环氧乙 烷山梨糖醇酐及四油酸聚环氧乙烷山梨糖醇之化 合物。3.如申请专利范围第1项之磁碟用基板之研 磨用组成物,其中该(b)中,聚环氧乙烷山梨糖醇酐 脂肪酸酯及聚环氧乙烷山梨糖醇脂肪酸酯,系相对 于1分子之山梨糖醇酐或山梨糖醇之环氧乙烷附加 比率为30以下。4.如申请专利范围第1项之磁碟用 基板之研磨用组成物,其中该(b)中之聚乙烯基咯 烷酮之平均分子量为2500至2900000。5.如申请专利范 围第1项至第4项中任一项之磁碟用基板之研磨用 组成物,其中该成份(b)之含量为相对于研磨用组成 物总重量之0.001至2%。6.如申请专利范围第1项至第 4项中任一项之磁碟用基板之研磨用组成物,其中 该(a)之含量为相对于研磨用组成物总重量之0.01至 25%。7.一种磁碟用基板之研磨方法,其特征为,使用 如申请专利范围第1项至第6项中任一项之磁碟用 基板之研磨用组成物,研磨磁碟用基板。图式简单 说明: 图1系表示评价平面边缘下垂用之测定位置图。 |
