| 主权项 |
1.一种具防水视窗之研磨垫,适用于化学机械研磨 制程中研磨一晶片,至少包括: 一顶层,具有一研磨表面以与该晶片之一欲研磨表 面接触,该顶层系具有一第一孔洞; 一底层,邻接于该顶层,该底层系具有一第二孔洞, 该第二孔洞系对同轴地对齐该第一孔洞且该第二 孔洞之尺寸系较该第一孔洞之尺寸为小; 一视窗,封密地设置于该顶层之该孔洞中,该视窗 实质上为透明的; 一第一吸水区,设置于该顶层中之该视窗的周围, 该第一吸水区内系填充有一第一吸水材料;以及 一第二吸水区,设置于该底层之该孔洞的周围,该 第二吸水区内系填充有一第二吸水材料,该第二吸 水区系与该视窗之一下表面部分地接触。2.如申 请专利范围第1项之研磨垫,其中该第二吸水区的 尺寸系较该第一吸水区的尺寸为大。3.如申请专 利范围第1项之研磨垫,其中该第一吸水材料与该 第二吸水材料系具不同的吸水率。4.如申请专利 范围第1项之研磨垫,其中该第一吸水材料与该第 二吸水材料系包括可吸水之材料。5.如申请专利 范围第1项之研磨垫,其中该第一吸水材料与该第 二吸水材料更包括可疏水之材料。6.一种用于一 化学机械研磨制程之研磨垫,至少包括有: 一垫体,具有一研磨表面,该垫体中系形成有一孔 洞; 一透明视窗,设置于该垫体之该孔洞中,该视窗之 上表面系与该研磨表面为共平面;以及 至少一第一吸水区,设置于该垫体内之该视窗周围 ,该第一吸水区内系填充有至少一第一吸水材料。 7.如申请专利范围第6项之研磨垫,其中该垫体系由 一第一垫层与一第二垫层所组成,该第一垫层系具 有该研磨表面,而该第二垫层系邻接于该第一垫层 ,以及该垫体中之该孔洞系延伸穿过该第一垫层与 该第二垫层,而在该第一垫层中形成一第一孔洞及 在该第二垫层中形成一第二孔洞。8.如申请专利 范围第6项之研磨垫,其中该吸水材料更包括可疏 水之材料。9.如申请专利范围第7项之研磨垫,其中 该第二孔洞的尺寸系较该第一孔洞的尺寸为小。 10.如申请专利范围第9项之研磨垫,其中更包括一 第二吸水区于该第二孔洞的周围,该第二吸水区内 系填充有一第二吸水材料,该第二吸水区系与该视 窗之一下表面部分地接触。图式简单说明: 第1图所示为一习知用来进行化学机械研磨制程之 设备的示意图;以及 第2图所示为根据本发明之一具防水视窗之研磨垫 的剖面示意图。 |
