| 主权项 |
1.一种判断碟片反置的方法,该方法包含下列步骤: (a)在一光碟机内置有一碟片时,发射一雷射光束; (b)将该光碟机之一聚焦装置由一第一位置移动至 一第二位置;及 (c)于该聚焦装置移动时,持续记录该碟片对于该雷 射光束的一反射量变化,以得到一雷射反射量分布 图形,并由该雷射反射量分布图形判别该碟片之反 置状况。2.如申请专利范围第1项之判断碟片反置 的方法,其中步骤(b)中该第一位置系使得该碟片与 该聚焦装置之间具有最长距离,该第二位置系使得 该碟片与该聚焦装置之间具有最短距离。3.如申 请专利范围第1项之判断碟片反置的方法,其中步 骤(b)中该第一位置系使得该碟片与该聚焦装置之 间具有最短距离,该第二位置系使得该碟片与该聚 焦装置之间具有最长距离。4.如申请专利范围第1 项之判断碟片反置的方法,其中步骤(c)由该雷射反 射量分布图形判别该碟片之反置状况,系将量测到 之该雷射反射量分布图形与预定之一参考反射量 分布图形做比较。5.如申请专利范围第4项之判断 碟片反置的方法,其中该参考反射量分布图形至少 包含一低反射量区域,当该雷射反射量分布图形落 在该低反射量区域内,即可判定该碟片系反置。6. 如申请专利范围第4项之判断碟片反置的方法,其 中该参考反射量分布图形至少包含一反射量尖峰 偏离区域,当该雷射反射量分布图形之较高反射量 系落在该反射量尖峰偏离区域内,即可判定该碟片 系反置。7.如申请专利范围第6项之判断碟片反置 的方法,其中该反射量尖峰偏离区域系指该雷射反 射量分布图形中之较高反射量偏离一正置碟片之 较高反射量一预定距离以上之区域。8.如申请专 利范围第7项之判断碟片反置的方法,其中该预定 距离系在1.0 mm与1.4mm之间。9.一种判断碟片反置的 方法,系用以判别一光碟机内的一碟片反置现象, 该方法包含下列步骤: (a)发射一雷射光束; (b)将该光碟机之一聚焦装置由一第一位置移至一 第二位置; (c)于该聚焦装置移动时,持续记录该碟片对于该雷 射光束的一反射量变化,以得到一雷射反射量分布 图形;及 (d)将该雷射反射量分布图形与预定之一参考反射 量分布图形比较,用以判别该碟片之反置状况。10. 如申请专利范围第9项之判断碟片反置的方法,其 中步骤(b)中该第一位置系使得该碟片与该聚焦装 置之间具有最长距离,该第二位置系使得该碟片与 该聚焦装置之间具有最短距离。11.如申请专利范 围第9项之判断碟片反置的方法,其中步骤(b)中该 第一位置系使得该碟片与该聚焦装置之间具有最 短距离,该第二位置系使得该碟片与该聚焦装置之 间具有最长距离。12.如申请专利范围第9项之判断 碟片反置的方法,其中该参考反射量分布图形至少 包含一低反射量区域,当该雷射反射量分布图形皆 落在该低反射量区域内,即可判定该碟片系反置。 13.如申请专利范围第9项之判断碟片反置的方法, 其中该参考反射量分布图形至少包含一反射量尖 峰偏离区域,当该雷射反射量分布图形之较高反射 量系落在该反射量尖峰偏离区域内,即可判定该碟 片系反置。14.如申请专利范围第13项之判断碟片 反置的方法,其中该反射量尖峰偏离区域系指该雷 射反射量分布图形中之较高反射量偏离一正置碟 片之较高反射量一预定距离以上之区域。15.如申 请专利范围第14项之判断碟片反置的方法,其中该 预定距离系在1.0mm与1.4mm之间。图式简单说明: 第一图为习知光碟机读取讯号之系统示意图, 第二图说明碟片存在检测程序之电压、时间与主 轴转速关系; 第三图说明碟片存在检测程序中主轴转速之带状 分布状况; 第四图说明碟片正置及反置时的聚焦状况; 第五图说明碟片正置及反置时的反射图形;及 第六图说明本发明之流程。 |
