| 主权项 |
1.一种铈系研磨材料之品质检查方法,使用以Cu-K 1射线为X光源之X光绕射测定法对含氟并含有分别 对铈为0.5原子%镧或钕、比表面积在12m2/g以下之铈 系研磨材料进行研磨特性检查, 以X光绕射测定法,对绕射角(2)在5~80范围中最 大之峰a之强度A,及绕射角在27.50.3范围较峰a绕 射角小角度侧范围中之最大峰强度B、绕射角在26. 50.5范围中最大峰强度C、绕射角在24.20.5范围 中最大峰强度D中至少一个峰値强度进行测定, 由所测得之峰値强度求得之B/A、C/A、D/A中至少一 个値与对研磨特性已知之研磨材料以X光绕射测定 法所求得之値比较,以进行品质检查。2.一种铈系 研磨材料,含氟并含有分别对铈为0.5原子%镧或钕 、比表面积在12m2/g以下, 其特征在于: 以Cu-K1作为X光源进行X光绕射测定法测定绕射角 (2)在5~80范围中最大之峰a之强度A,及绕射角在 27.50.3范围较峰3绕射角小角度侧范围中之最大 峰强度B之两测定値所求出之B/A中,B/A<0.06。3.一种 铈系研磨材料,含氟并含有分别对铈为0.5原子%镧 或钕、比表面积在12m2/g以下, 其特征在于: 以Cu-K1作为X光源以X光绕射测定法测定绕射角(2 )在5~80范围中最大之峰a之强度A,及绕射角在24. 20.5范围最大峰强度D之两测定値所求出之D/A中,D /A<0.04。4.如申请专利范围第2项之铈系研磨材料, 其中由以Cu-K1作为X光源之X光绕射测定法测定的 绕射角在26.50.5范围的最大峰强度C与前述峰强 度A之两测定値所求出之C/A为,0.05≦C/A≦0.60。5.如 申请专利范围第3项之铈系研磨材料,其中由以Cu-K 1作为X光源之X光绕射测定法测定的绕射角在26.5 0.5范围的最大峰强度C与前述峰强度A之两测定 値所求出之C/A为,0.05≦C/A≦0.60。6.如申请专利范 围第4或5项之铈系研磨材料,其中0.60≧C/A≧0.10。7. 如申请专利范围第4项之铈系研磨材料,其中B/A≦0. 01,且0.10≦C/A≦0.60。8.如申请专利范围第4项之铈 系研磨材料,其中B/A≦0.01,且0.05≦C/A≦0.10。9.如申 请专利范围第5项之铈系研磨材料,其中D/A≦0.008, 且0.10≦C/A≦0.60。10.如申请专利范围第5项之铈系 研磨材料,其中D/A≦0.008,且0.05≦C/A≦0.10。11.一种 铈系研磨材料制造方法,系含氟并含有分别对铈为 0.5原子%镧或钕、比表面积在12m2/g以下之铈系研磨 材料之制造方法,且在焙烧过程前具有氟化处理, 其特征在于: 依据使用以Cu-K1射线为X光源之X光绕射测定法对 铈系研磨材料进行测定之绕射角(2)在5~80范围 中最大之峰a之强度A、绕射角在27.50.3范围较峰a 绕射角小角度侧范围中之最大峰强度B、绕射角在 26.50.5范围中最大峰强度C、绕射角在24.20.5范 围中最大峰强度D之各测定値中所求得之B/A、C/A、 D/A中至少一个値与制造条件已知之研磨材料以X光 绕射测定法所求得之値比较,以定出氟化处理中氟 添加量及焙烧时之焙烧温度。12.如申请专利范围 第11项之铈系研磨材料制造方法,其中氟化处理中 氟添加量及焙烧时之焙烧温度系以使B/A<0.06或D/A<0 .04来决定。图式简单说明: 图1系表示研磨値与C/A之关系。 图2系表示研磨材料1之X光绕射测定资料。 图3系表示研磨材料6之X光绕射测定资料。 |
