有机矽氧系高分子化合物及光硬化性树脂组成物与图型之形成方法及基板保护用被膜

摘要

提供具有以下述一般式(1)表示的重复单位之重量平均分子量500~200，000之有机矽氧系高分子化合物。(式内，R1~R4表示可为相同或不同的碳数1~8之一价烃基。又n表示1~1000之整数)。藉由使用本发明之新颖的有机矽氧系高分子化合物，以宽度较广的波长之光可曝光，且在不受氧障碍下可容易形成薄膜的光硬化性树脂组成物。再者，可形成耐乾蚀刻性优越的微细图型，再者由此组成物而得的硬化被膜与基板间之附着性，耐热性，电气绝缘性优越，较合适用作电机，电子组件，半导体元件的保护膜。

主权项

1.一种有机矽氧烷系高分子化合物,系具有以下述 一般式(1) (式内,R1~R4表示可为相同或不同的碳数1~8之一价烃 基;又n表示1~1000之整数)表示的重复单位之重量平 均分子量500~200,000。2.一种光硬化性树脂组成物, 其特征在于含有 (A)申请专利范围第1项之有机聚矽氧烷系高分子化 合物, (B)由甲醛或甲醛醇改质的胺基缩合物,于一分子中 平均具有二个以上的羟甲基或烷氧基羟甲基之酚 化合物及一分子中平均具有二个以上的环氧基之 环氧基选出的任一种以上,相对于(A)100重量份为含 有1~50重量份,及 (C)由磺酸盐、三与錪中所选出之光酸发生剂,相 对于(A)100重量份为含有0.1~20重量份, 而成。3.一种图案形成方法,其特征在于含有 (i)将申请专利范围第2项之光硬化性树脂组成物涂 布于基板上的步骤, (ii)介由光罩以波长150~450nm之光曝光的步骤及 (iii)用显影液显影的步骤而成。4.一种基板保护用 被膜,系由申请专利范围第3项之方法经予形成图 案的薄膜后使硬化而得。