| 主权项 |
1.一种新型苯苯乙烯盐化合物,其具有如下之 化学结构式: 该化学结构式之组成为: R1系选自含1至8个碳(C1-8)之烷基、苯环酯基团、含 1至8个碳(C1-8)之直链烷磺酸酯基与直链烷酯基所 组成的族群其中之一; R2和R3系分别为相同或不同之基团,系选自氢原子 、含1至8个碳(C1-8)之烷基、含1至8个碳(C1-8)之烷氧 基、含1至8个碳(C1-8)之烷酯基与R2和R3相连形成含 氮杂环所组成的族群其中之一; R4和R5系选自氢原子、含1至8个碳(C1-8)之烷基、三 氟甲基、烷氧基、羧基、硝基、磺酸基、磺酸酯 基、醯胺基、含1至8个碳之烷酯基与卤素原子所 组成的族群其中之一; Y-系选自四氰基-对奎诺二甲烷(TCNQ-,tetracyano-p- quinodimethane)、四氰乙烯(TCNE-,tetracyanoethylene)、过 氯酸根(ClO4-)、六氟锑酸盐(SbF6-)、六氟磷酸盐(PF6- )、四氟硼酸盐(BF4)和卤素离子其中之一;及 其中当R1为含1至8个碳(C1-8)之烷基时,Y-为四氰基- 对奎诺二甲烷(TCNQ-,tetracyano-p-quinodimethane)、四氰 乙烯(TCNE-,tetracyanoethylene)所组成的族群其中之一 。2.如申请专利范围第1项所述之新型苯苯乙 烯盐化合物,其中R1为苯环酯基团(CH2C6H4CO2R6)时,R6 系选自含1至8个碳(C1-8)之烷基与氟烷基(C2F4,CF3)所 组成的族群其中之一。3.如申请专利范围第1项所 述之新型苯苯乙烯盐化合物,其中R1为直链烷 酯基(CH2)nCOnR7.直链烷磺酸酯基(CH2)nSO3R7时,R7系为 含1至8个碳(C1-8)之烷基。4.如申请专利范围第1项 所述之新型苯苯乙烯盐化合物,其中R4和R5系 为含1至8个碳(C1-8)之烷酯基(CO2R8)时,R8系选自含1至 8个碳(C1-8)之烷基与氟烷基(C2F4.CF3)所组成的族群 其中之一。5.如申请专利范围第1项所述之新型苯 苯乙烯盐化合物,其中R4和R5系为醯胺基(-CONR9R 10)时,R9与R10可为氢原子和含1至6个碳(C1-6)之烷基 所组成的族群其中之一。6.如申请专利范围第1项 所述之新型苯苯乙烯盐化合物,其中R4和R5系 为磺酸酯基(-SO3R11)时,R11可为氢原子和含1至6个碳( C1-6)之烷基所组成的族群其中之一。7.一种高密度 可录式光碟片,其包含有: 一第一基板,系为透明基板; 一记录层,该记录层系由一新型苯苯乙烯盐化 合物形成于该第一基板表面,其中该新型苯苯 乙烯盐化合物,具有如下之化学结构式: 该化学结构式之组成为: R1系选自含1至8个碳(C1-8)之烷基、苯环酯基团、含 1至8个碳(C1-8)之直链烷磺酸酯基与直链烷酯基所 组成的族群其中之一; R2和R3系分别为相同或不同之基团,系选自氢原子 、含1至8个碳(C1-8)之烷基、含1至8个碳(C1-8)之烷氧 基、含1至8个碳(C1-8)之烷酯基与R2和R3相连形成含 氮杂环所组成的族群其中之一; R4和R5系选自氢原子、含1至8个碳(C1-8)之烷基、三 氟甲基、烷氧基、羧基、硝基、磺酸基、磺酸酯 基、醯胺基、含1至8个碳之烷酯基与卤素原子所 组成的族群其中之一; Y-系选自四氰基-对奎诺二甲烷(TCNQ-,tetracyano-p- quinodimethane)、四氰乙烯(TCNE-,tetracyanoethylene)、过 氯酸根(ClO4-)、六氟锑酸盐(SbF6-)、六氟磷酸盐(PF6- )、四氟硼酸盐(BF4)和卤素离子其中之一;及 其中当R1为含1至8个碳(C1-8)之烷基时,Y-为四氰基- 对奎诺二甲烷(TCNQ-,tetracyano-p-quinodimethane)、四氰 乙烯(TCNE-,tetracyanoethylene)所组成的族群其中之一; 一反射层,系配置于该记录层上; 一第二基板,系为透明基板;及 一贴合层,系用以贴合该反射层与该第二基板。8. 如申请专利范围第7项所述之高密度可录式光碟片 ,其中R1为苯环酯基团(CH2C6H4CO2R6)时,R6系选自含1至8 个碳(C1-8)之烷基与氟烷基(C2F4.CF3)所组成的族群其 中之一。9.如申请专利范围第7项所述之高密度可 录式光碟片,其中R1为直链烷酯基(CH2)nCOnR7.直链烷 磺酸酯基(CH2)nSO3R7时,R7系为含1至8个碳(C1-8)之烷基 。10.如申请专利范图第7项所述之高密度可录式光 碟片,其中R4和R5系为含1至8个碳(C1-8)之烷酯基(CO2R8 )时,R8系选自含1至8个碳(C1-8)之烷基与氟烷基(C2F4. CF3)所组成的族群其中之一。11.如申请专利范围第 7项所述之高密度可录式光碟片,其中R4和R5系为醯 胺基(-CONR9R10)时,R9与R10可为氢原子和含1至6个碳(C1 -6)之烷基所组成的族群其中之一。12.如申请专利 范围第7项所述之高密度可录式光碟片,其中R4和R5 系为磺酸酯基(-SO3R11)时,R11可为氢原子和含1至6个 碳(C1-6)之烷基所组成的族群其中之一。13.如申请 专利范围第7项所述之高密度可录式光碟片,该第 一基板与该第二基板系为一具有沟轨(land)及沟槽( groove)之透明基板,其轨距(track pitch)系为0.3微米至0 .8微米(mm),沟深(Groove depth)系为70奈米至200奈米(nm) 。14.如申请专利范围第7项所述之高密度可录式光 碟片,其中该第一基板与该第二基板之材质可系为 聚酯类、聚碳酸酯类(Polycarbonat,PC)与聚烯类其中 之一。15.如申请专利范围第7项所述之高密度可录 式光碟片,其中该记录层形成方式,系将该新型苯 苯乙烯盐化合物透过旋转涂布、真空蒸镀、 喷布、滚压涂布与含浸其中之一方法以形成该记 录层。16.如申请专利范围第7项所述之高密度可录 式光碟片,其中该记录层之膜厚系为70奈米至250奈 米(nm)。17.如申请专利范围第7项所述之高密度可 录式光碟片,其中该记录层之形成方式,系将该新 型苯苯乙烯盐化合物溶于一有机溶剂再以旋 转涂布方法涂布于该第一基板表面以形成该记录 层。18.如申请专利范围第17项所述之高密度可录 式光碟片其中该有机溶剂系为含1至6个碳(C1-6)之 醇类(alcohol)、含1至6个碳(C1-6)之酮类(ketone)含1至6 个碳(C1-6)之醚类(ether)、卤素化合物、环烷类及醯 胺(amide)其中之一。19.如申请专利范围第18项所述 之高密度可录式光碟片,其中该含1至6个碳(C1-6)之 醇类系为甲醇(methanol)、乙醇(ethanol)、异丙醇( isopropanol)、二丙酮醇(diacetonalchol;DAA)-2,2,3,3-四氟 丙醇(2,2,3,3-tetrafluoropropanol)、三氯乙醇( trichloroethanol)、2-氯乙醇(2-chloroethanol)、八氟戍醇( octafluoropentanol)、六氟丁醇(hexafluorobutanol)其中之 一。20.如申请专利范围第18项所述之高密度可录 式光碟片,其中该1至6个碳(C1-6)之酮类系为丙酮( acetone)甲基异丁酮(methyl isobutyl ketone,MIBK)、甲基乙 基酮(methyl ethyl ketone,MEK)与3-羟基-3-甲基-2-丁酮(3- hydroxy-3-methyl-2-butanone)其中之一。21.如申请专利范 围第18项所述之高密度可录式光碟片,其中该卤素 化合物系为氯仿(chloroform)、二氯甲烷(dichloromethane )、及1-氯丁烷(1-chlorobutane)其中之一。22.如申请专 利范围第18项所述之高密度可录式光碟片,其中该 环烷类系为甲基环己烷(Methylcyclohexane,MCH)。23.如 申请专利范围第18项所述之高密度可录式光碟片, 其中该醯胺系为二甲基甲醯胺(dimethylformamide,DMF) 、及二甲基乙醯胺(dimethylacetamide,DMA)其中之一。24 .如申请专利范围第7项所述之高密度可录式光碟 片,其中该反射层系为金、银、铝、矽、铜、银钛 合金、银铬合金、银铜合金及其任意组合之合金 其中之一。25.如申请专利范围第7项所述之高密度 可录式光碟片,其中以该贴合层之贴合方式系为旋 转涂布法、网印、热融胶法、双面胶带贴合法其 中之一。26.如申请专利范围第7项所述之高密度可 录式光碟片,其中该反射层的膜厚系为50奈米至200 奈米(nm)。27.如申请专利范围第7项所述之高密度 可录式光碟片,其中更包含重叠复数个记录层以及 复数个反射层以形成一多层高密度可录式光碟片 。图式简单说明: 第1图为新型苯苯乙烯盐化合物的化学式(I)示 意图; 第2图为使用新型苯苯乙烯盐化合物染料之高 密度可录式光碟片的应用实施例示意图;及 第3图为本发明应用实施例的高密度可录式光碟片 反射率对波长之光谱图。 |
