| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR MASK ALIGNMENT SYSTEM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG104296(A1) |
申请公布日期 |
2004.06.21 |
| 申请号 |
SG20020000801 |
申请日期 |
2002.02.14 |
| 申请人 |
CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING, LTD |
发明人 |
AMIT GOSH;YEW KONG TAN |
| 分类号 |
G03F7/20;G03F9/00;(IPC1-7):G03F9/00 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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