发明名称 Halbleiterspeichereinrichtung sowie Verfahren zu deren Herstellung
摘要 Es werden eine Halbleiterspeichereinrichtung (1) mit Phasenumwandlungsspeichereffekt sowie ein Verfahren zu deren Herstellung vorgeschlagen, bei welchem für ein Speicherelement (E) in einem Halbleitersubstrat (20) jeweils eine Hohlraumanordnung (H) mit mindestens einem Hohlraum (H1, H2) in räumlicher Nähe zum jeweiligen Speicherelement (E) derart vorgesehen wird, dass die thermische Kopplung des jeweiligen Speicherelements (E) zur Umgebung des Speicherelements (E) durch Reduktion der thermischen Leitfähigkeit zwischen Speicherelement (E) und der Umgebung vermindert ausgebildet wird.
申请公布号 DE10255117(A1) 申请公布日期 2004.06.17
申请号 DE2002155117 申请日期 2002.11.26
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 MIKOLAJICK, THOMAS;WERNER, WOLFGANG;KLOSE, HELMUT
分类号 H01L27/24;H01L45/00;(IPC1-7):H01L27/112;H01L21/824 主分类号 H01L27/24
代理机构 代理人
主权项
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