发明名称 | 薄膜电晶体阵列的制作方法 | ||
摘要 | 一种薄膜电晶体阵列的制作方法,适于在具有至少一预定显示区的一基板上制作,系先于基板上形成一第一图案化导体层,且其分布范围超出预定显示区。然后,于基板上形成一第一介电层,并暴露预定显示区以外之部分第一图案化导体层。之后,于第一介电层上形成一第二图案化导体层,其系与暴露之第一图案化导体层电性连接,再于基板上形成具有数个接触窗口的一第二介电层。接着,于第二介电层上形成藉由接触窗口与第二图案化导体层相连的数个画素电极。最后去除位于预定显示区外的各层。因此,上述制作方法可避免静电破坏的发生。 | ||
申请公布号 | TW200410415 | 申请公布日期 | 2004.06.16 |
申请号 | TW091135000 | 申请日期 | 2002.12.03 |
申请人 | 广辉电子股份有限公司 | 发明人 | 洪孟逸 |
分类号 | H01L29/786 | 主分类号 | H01L29/786 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县桃园市县府路四十八号 |