发明名称 | 发光二极体结构 | ||
摘要 | 一种发光二极体结构,包括一基底。一n型第一束缚层形成于该基底上。一第一n型电极形成于该第一束缚层上一凹陷区域。一第一主动层形成于第一束缚层上。一p型第二束缚层形成于第一主动层上。一穿隧层形成于第二束缚层上。一n型第三束缚层形成于穿隧层上。一第二n型电极形成于该n型第三束缚层上一凹陷区域。一第二主动层形成于第三束缚层上。一p型第四束缚层形成于第二主动层上。一p型第三电极形成于第四束缚层上。其中穿隧层可包括一超晶格穿隧层,免除p型第二束缚层与n型第三束缚层之间具整流特性之pn结合面的形成。电压可透过一第二n型电极,施加给p型第二束缚层。 | ||
申请公布号 | TW200410425 | 申请公布日期 | 2004.06.16 |
申请号 | TW091135948 | 申请日期 | 2002.12.12 |
申请人 | 元砷光电科技股份有限公司 | 发明人 | 许进恭;赖韦志 |
分类号 | H01L33/00 | 主分类号 | H01L33/00 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 台南县新市乡台南科学工业园区大顺九路十六号 |