发明名称 | 抗反射的聚合物结构及其制备方法 | ||
摘要 | 本发明说明了多种抗反射聚合物结构,包含这些结构的制品,以及制备这些结构的方法。 | ||
申请公布号 | CN1153985C | 申请公布日期 | 2004.06.16 |
申请号 | CN99803909.8 | 申请日期 | 1999.01.13 |
申请人 | 美国3M公司 | 发明人 | M·F·韦伯;A·J·奥德科克 |
分类号 | G02B1/11 | 主分类号 | G02B1/11 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 余岚 |
主权项 | 1.一种制品,包含多层聚合物层,其中相邻的聚合物层具有不同的折射率,每层所述聚合物层的厚度等于或小于1微米,这些层共同形成自立膜,选择所述聚合物层的材料和厚度,以使当所述制品与折射率为1.50的底材表面光耦合时,所述制品能降低所述底材在所述表面上在400-700nm波长范围内感兴趣的波长范围的反射率,垂直入射时反射率降低至原来的1/2或者更低。 | ||
地址 | 美国明尼苏达州 |