光刻装置，器件制造方法，及由此制成的器件

摘要

一种光刻投影装置包括：辐射系统，用来提供一次辐射的投影束；用于支撑作图装置的支撑结构，该作图装置用来按照所需图形对投影束作图；用于夹持衬底的衬底台；投影系统，用来将作图的束投射至衬底的目标部分上；辐射感测器，它可以在投影束经过的路径上移动，用来接收来自投影束的一次辐射，该感测器包括：一种辐射敏感材料，它将入射的一次辐射转变为二次辐射；能感测从该材料发出的二次辐射的感测装置；及一种滤波材料，它防止二次辐射在背离辐射感测装置的方向传播。

主权项

1.一种光刻投影装置，包括-辐射系统，用来提供一次辐射的投影束；-支撑结构，用来支撑作图装置，该作图装置用来按所需图形对投影束作图；-衬底台，用来夹持衬底；-投影系统，用来将作图的束投射到衬底的目标部分上，-辐射感测器，它可在投影束经过的路径上移动，以接收来自投影束的一次辐射，该辐射感测器包括：一种辐射敏感材料，它将入射的一次辐射转变为二次辐射；能感测从辐射敏感材料发出的二次辐射的辐射感测装置；一种滤波材料，它能基本上阻止二次辐射在背离辐射感测装置方向传播。