浅沟渠隔离结构的制造方法

摘要

一种浅沟渠隔离结构的制造方法，此方法在基底上依序形成垫氧化层和罩幕层，再依序定义垫氧化层、罩幕层和部分基底以形成沟渠，接着，在沟渠内表面与罩幕层表面形成共形的缓冲层，再将缓冲层转变为氧化物层，然后，于浅沟渠内与基底上形成绝缘层以填满沟渠，再移除沟渠之外的绝缘层与氧化物层直至暴露出罩幕层表面，最后再移除罩幕层及垫氧化层以形成浅沟渠隔离结构。

主权项

1、一种浅沟渠隔离结构的制造方法，其特征在于：包括下列步骤：提供一基底；在该基底上依序形成一垫氧化层和一罩幕层；依序定义该垫氧化层、该罩幕层和部分该基底以形成一沟渠；在该沟渠的内表面与该罩幕层表面形成共形的一缓冲层；将该缓冲层转变为一氧化物层；于该沟渠内与该基底上形成一绝缘层以填满该沟渠；移除该沟渠之外的该绝缘层与该氧化物层，直至暴露出该罩幕层表面；以及移除该罩幕层及该垫氧化层。