发明名称 |
一种镀通孔的无甲醛电解厚铜制造方法 |
摘要 |
本发明是有关于一种镀通孔的无甲醛电解厚铜制造方法,其是将镀通孔的带入一无须使用甲醛的制造方法,其主要是将一电路板钻孔后,以调整孔壁上紊乱的电荷至均匀一致的电荷排列,同时使板面铜箔产生均匀的微粗糙现象;再加入一胶体触媒活化剂于导通孔的孔壁上,使其附着于孔壁上;将孔壁上的原子清除,只留下钯原子或铜原子的其中之一;将含硫原子化合物固着于孔壁上的钯原子或铜原子之上,以增加孔壁的导电性;以及将被覆性优良的镀铜液镀于孔壁上,以达导通电流的效果。 |
申请公布号 |
CN1505461A |
申请公布日期 |
2004.06.16 |
申请号 |
CN02153642.2 |
申请日期 |
2002.12.03 |
申请人 |
叶清祥;胡庶鼎 |
发明人 |
叶清祥;胡庶鼎 |
分类号 |
H05K3/42;C25D5/54;C25D3/38 |
主分类号 |
H05K3/42 |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
朱黎光 |
主权项 |
1、一种镀通孔的无甲醛电解厚铜制造方法,其是将印刷电路板导通孔内壁镀上一层金属铜,其特征在于主要步骤是至少包括:将印刷电路板钻孔后,加入一试剂,以调整孔壁上紊乱的电荷至均匀一致的电荷排列;使用一硫酸/双氧水、一过硫酸钠或一过硫酸铵溶液,轻微溶蚀该印刷电路板表面以增加粗糙度;将该印刷电路板预先浸泡于含一氯化钠及一氯化亚锡的酸液中;加入一胶体触媒活化剂于导通孔的孔壁上;将孔壁上的原子清除,只留下钯原子或铜原子的其中之一;将含硫原子化合物固着于孔壁上的钯原子或铜原子之上,以增加孔壁的导电性;以及将被覆性优良的镀铜液镀于孔壁上。 |
地址 |
台湾省台北市永吉路321巷18弄6号2楼 |