发明名称 一种镀通孔的无甲醛电解厚铜制造方法
摘要 本发明是有关于一种镀通孔的无甲醛电解厚铜制造方法,其是将镀通孔的带入一无须使用甲醛的制造方法,其主要是将一电路板钻孔后,以调整孔壁上紊乱的电荷至均匀一致的电荷排列,同时使板面铜箔产生均匀的微粗糙现象;再加入一胶体触媒活化剂于导通孔的孔壁上,使其附着于孔壁上;将孔壁上的原子清除,只留下钯原子或铜原子的其中之一;将含硫原子化合物固着于孔壁上的钯原子或铜原子之上,以增加孔壁的导电性;以及将被覆性优良的镀铜液镀于孔壁上,以达导通电流的效果。
申请公布号 CN1505461A 申请公布日期 2004.06.16
申请号 CN02153642.2 申请日期 2002.12.03
申请人 叶清祥;胡庶鼎 发明人 叶清祥;胡庶鼎
分类号 H05K3/42;C25D5/54;C25D3/38 主分类号 H05K3/42
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 朱黎光
主权项 1、一种镀通孔的无甲醛电解厚铜制造方法,其是将印刷电路板导通孔内壁镀上一层金属铜,其特征在于主要步骤是至少包括:将印刷电路板钻孔后,加入一试剂,以调整孔壁上紊乱的电荷至均匀一致的电荷排列;使用一硫酸/双氧水、一过硫酸钠或一过硫酸铵溶液,轻微溶蚀该印刷电路板表面以增加粗糙度;将该印刷电路板预先浸泡于含一氯化钠及一氯化亚锡的酸液中;加入一胶体触媒活化剂于导通孔的孔壁上;将孔壁上的原子清除,只留下钯原子或铜原子的其中之一;将含硫原子化合物固着于孔壁上的钯原子或铜原子之上,以增加孔壁的导电性;以及将被覆性优良的镀铜液镀于孔壁上。
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