短波成像用溶剂和光刻胶组合物

摘要

本发明提供了适于短波，尤其亚170nm如157nm成像的新型光刻胶。本发明的光刻胶包括含氟聚合物、光敏组分和溶剂组分。优选用于本发明的光刻胶的溶剂能够将光刻胶组分保持在溶液中，包括一种或多种，优选两种或多种溶剂(即共混物)。在本发明的特别优选的溶剂共混物中，各共混成分以基本相等的速率蒸发，从而光刻胶组合物保持基本恒定浓度的各共混成分。

主权项

1、光刻胶组合物，包括氟化树脂，光敏组分，和溶剂组分，该溶剂组分包括至少两种不同溶剂的混合物，其中该不同溶剂之一不合有酮结构部分，以及排除由甲基乙基酮和氯苯组成的溶剂组分。