| 发明名称 | 废显影液再生装置和废显影液再生方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及废显影液再生装置和废显影液再生方法。显影液再生系统(1)备有贮存含有TMAH等的TAAH和光致抗蚀剂的废显影液的贮存槽(2)，通过配管(3，6)与废液贮存槽2连接并且具有NF膜的第1分离装置(5)，和通过配管(7)与第1分离装置5连接的贮存槽8，和通过配管(9，12)与贮存槽8连接并且具有NF膜的第2分离装置(11)。又，显影液再生系统(1)通过与贮存槽(2)连接的配管(13)与显影装置(100)连接，进一步，通过与贮存槽(8)连接的配管(15)与显影液管理供给装置(101)连接。 | ||
| 申请公布号 | CN1504414A | 申请公布日期 | 2004.06.16 |
| 申请号 | CN02152665.6 | 申请日期 | 2002.11.29 |
| 申请人 | 长濑产业株式会社;长濑CMS科学技术株式会社 | 发明人 | 小川修;小早川泰之;北川悌也;菊川诚 |
| 分类号 | C02F1/44;//C02F103:40 | 主分类号 | C02F1/44 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 罗亚川 |
| 主权项 | 1.废显影液再生装置，它备有移送含有四烷铵氢氧化物和光致抗蚀剂的废显影液的废显影液移送部分，贮存上述移送的废显影液的第1贮存槽，具有第1毫微过滤膜，将贮存在上述第1贮存槽中的废显影液分离成含有四烷铵氢氧化物的第1透过液和第1非透过成分的第1分离装置，贮存上述第1透过液的第2贮存槽，和具有与上述第1毫微过滤膜不同的分离分子量的第2毫微过滤膜，将贮存在上述第2贮存槽中的第1透过液分离成第2透过液和含有四烷铵氢氧化物的第2非透过成分的第2分离装置。 | ||
| 地址 | 日本大阪 | ||