发明名称 | 清洗设备 | ||
摘要 | 一种清洗设备,适于清洗至少一玻璃基板,此清洗设备主要具有一清洗室,并于清洗室内配置多个主动滚轮以及多个平衡用喷嘴。其中,多个主动滚轮依序排列成一直线可供玻璃基板的侧边承靠,而多个平衡用喷嘴适于喷射一流体于玻璃基板的表面,用以平衡此玻璃基板。通过上述结构可达到垂直传送玻璃基板的目的。 | ||
申请公布号 | CN1504274A | 申请公布日期 | 2004.06.16 |
申请号 | CN02153824.7 | 申请日期 | 2002.11.28 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 李如龙;林健行;林益祥 |
分类号 | B08B11/04;B05B1/00 | 主分类号 | B08B11/04 |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王学强 |
主权项 | 1、一种清洗设备,适于清洗至少一玻璃基板,其特征在于:该清洗设备包括:一清洗室,具有至少一输入端及至少一输出端,且该清洗室包括一清洗区域;一第一玻璃转向装置,配置于该清洗室的该输入端处;复数个主动滚轮,配置于该清洗室中,且每一该些主动滚轮上具有一承靠面,该承靠面适于承靠该玻璃基板的侧边;复数个平衡用喷嘴,配置于该些主动滚轮的上方,且对应分布于该些主动滚轮所承靠的该玻璃基板的两侧,该些平衡用喷嘴适于喷射一流体于该玻璃基板的表面,用以平衡该玻璃基板;一清洗装置,配置于该清洗室的该清洗区域中;一第二玻璃转向装置,配置于该清洗室的该输出端处。 | ||
地址 | 台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路一号 |