| 主权项 |
1.一种正型光阻组合物,其包含(A)一树脂:(B)一能够以光化射线或辐射线照射产生酸之化合物;(C)一能够溶解(A)和(B)之有机溶剂;和(D)一有机硷性化合物,其中该(A)树脂包括:(a)一由以下所示式(I)代表之重复单元,(b)至少一由以下所示式(IIa)或(IIb)代表之重复单元,(c)一由以下所示式(III)代表之重复单元,及(d)一满足以下条件之重复单元(IV):可与由式(I)至(III)代表重复单元对应之单体共聚,包含至少一选自由以下各基团组成之群之官能团:合内酯结构之基团、含内醯胺结构之基团、-OH、-OCH3.-OCORa、-NHCORa、-NHSO2Ra、-N(R)CORa、-N(R)SO2Ra、-COOH、-COORa、-CONHRa、-CONHSO2Ra、-CON(R)SO2Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN,其中R、Ra和Rb分别独立代表具1至10个碳原子之烷基或芳基,且各基团可经取代,及大体不能由酸分解,且在酸作用下于硷显影剂中之溶解度增加:其中R1至R3分别独立代表烷基、卤烷基、卤原子、烷氧基、三烷基甲矽烷基或三烷基甲矽氧烷基,且n代表0或1;其中Y代表选自由氢原子、甲基、氰基和氯原子组成之群之基团,L代表单键或二价连接基团,Q代表氢原子或能够由酸分解产生羧酸之基团;其中X1和X2分别独立代表选自氧原子、硫原子、-NH-和-NHSO2-之基团;L1和L2分别独立代表单键或二价连接基团;A1代表-Q'或-COOQ',但其限制条件为,当X1代表氧原子且L1代表单键时,A1代表-Q';A2代表氢原子、氰基、羟基、-COOH、-COOR'、-CO-NH-R"、可经取代之烷基、可经取代之环烃基、烷氧基或-COOQ',其中R'和R"分别独立代表可具有取代基之烷基;且Q'代表能够由酸分解产生羧酸之基团:其中Z代表氧原子或N-R4,R4代表氢原子、羟基、具线性或分支链之烷基或-O-SO2-R5,R5代表烷基或三卤甲基;其中树脂(A)之量以光阻剂中全部固体含量计为40至99.99重量%,所加化合物(B)之量以本发明正型光阻组合物总重量计(不包括涂料溶剂)为0.001至40重量%,而所用有机硷性化合物(D)之量以光阻组合物全部固体量计为0.001至10重量%。2.根据申请专利范围第1项之正型光阻组合物,其中该重复单元(IV)为满足该重复单元(IV)所需条件且由下式(IV)代表之重复单元:其中Y代表选自由氢原子、甲基、氰基和氯原子组成之群之基团,X3代表选自由-CO2-、-O-及-CON(R)-组成之群之基团,其中又具有与上述相同之含义,L3代表单键或二价连接基团,A2代表由以下式(V)或(VI)表示之基团:-X4-(-Rc)m1 (V)其中X4代表可在环内包含羰键或酯键之脂环烃基,各Rc独立代表氢原子、烷基、包含作为取代基之至少一个官能团之烷基(该官能团选自由-OH、-OCH3.-OCORa、-NHCORa、-NHSO2Ra、-N(R)CORa、-N(R)SO2Ra-、-COOH、-COORa、-CONHRa、-CONHSO2Ra、-CON(R)SO2Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN组成之群)或选自由-OH、-OCH3.-OCORa、-NHCORa、-NHSO2Ra、-N(R)CORa、-N(R)SO2Ra、-COOH、-COORa、-CONHRa、-CONHSO2Ra、-CON(R)SO2Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN组成之群之基团,其中R、Ra和Rb分别具有与上述相同之含义,且m1代表0至5之整数;其中Rc1和Rc3分别独立代表氢原子、具1至10个碳原子可取代烷基、含作为取代基之至少一个官能团之烷基(该官能团选自由-OH、-OCH3.-OCORa、-NHCORa、-NHSO2Ra、-N(R)CORa、-N(R)SO2Ra-、-COOH、-COORa、-CONHRa、-CONHSO2Ra、-CON(R)SO2Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN组成之群)或选自由-COOH、-COORa、-CONHRa、-CONHSO2Ra、-CON(R)SO2Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN组成之群之基团,但其限制条件为Rc1和Rc3不同时为氢;且Rc2代表选自由-OH、-OCH3.-OCORa、-NHCORa、-NHSO2Ra、-N(R)CORa、-N(R)SO2Ra、-COOH、-COORa、-CONHRa、-CONHSO2Ra、-CON(R)SO2Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN组成之群之基团,其中R、Ra和Rb分别具有与上述相同之含义。3.根据申请专利范围第2项之正型光阻组合物,其中该式(IV)中A3为由以下式(VII)代表之基团:其中X5代表选自-CO-O-和-C(=O)-之基团,Rc和m1分别具有与上述相同之含义,m5代表0至2之整数。4.根据申请专利范围第3项之正型光阻组合物,其中该由式(VII)代表之基团为藉下列式(VIII)或(IX)代表之基团:5.根据申请专利范围第2项之正型光阻组合物,其中该式(V)中X4为金刚烷残基。6.根据申请专利范围第1项之正型光阻组合物,其中该组分(B)为以光化射线或辐射线照射产生有机磺酸之化合物。7.根据申请专利范围第1项之正型光阻组合物,其进一步包括(E)含氟界面活性剂、含矽界面活性剂和非离子性界面活性剂之至少一界面活性剂者。 |
