发明名称 正型光阻组成物
摘要 本发明系提供一种于使用i射线之光蚀刻印刷法中,具有优良感度、粗密度之正型光阻组成物。其系为含有(A)硷可溶性树脂、(B)(b1)下记式(I)之化合物与(b2)例如五倍子酸甲酯之二叠氮酯化物之组成物。(式中,D为氢原子或二叠氮基磺醯基)
申请公布号 TW591332 申请公布日期 2004.06.11
申请号 TW091137032 申请日期 2002.12.23
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 萩原三雄;馆俊聪;丸山健治
分类号 G03F7/008 主分类号 G03F7/008
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种正型光阻组成物,其系为含有(A)硷可溶性树脂、(B)二叠氮酯化物所得之正型光阻组成物,其特征为,该(B)成分系含有(b1)下记式(I)所示二叠氮酯化物,与(b2)下记式(II)所示二叠氮酯化物者;(式中,D为独立之氢原子、或1,2-二叠氮基-5-磺醯基,其中至少1个为1,2-二叠氮基-5-磺醯基)(式中,D为独立之氢原子、或1,2-二叠氮基-5-磺醯基,其中至少1个为1,2-二叠氮基-5-磺醯基,R1为碳数1至6之烷基)。2.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其尚含有(C)分子量1000以下之具有苯酚性羟基之硷可溶性低分子化合物。3.如申请专利范围第1或2项之正型光阻组成物,其中于(B)成分中,(b1)与(b2)之混合比例为对(b1)而言,(b2)为1至50重量%范围。
地址 日本