发明名称 导光板,侧光型面光源装置及液晶显示装置
摘要 本发明提供侧光型面光源装置(11),系具备有导光板(12)、一次光源(3)、反射片(4)及棱镜片(13、14)。在构成液晶显示装置时,更在其外侧配置有液晶显示面板。以等间隔设在支持构件(8)上的单元状(unit)发光部(7)系具有如LED之局部的发光区域。发光部(7)系收容于支持构件(8)之两端的突出部之间并接近入射端面(12A)而设置。入射端面(12A)系至少在对应发光部(7)的位置上具备有复数个沟(12D)。各沟(12D)系向导光板(12)之厚度方向延伸。其深度至少在出射面(12C)之附近随着靠近出射面(C)而逐渐减少。沟(12D)系向光之行进方向扩张,同时用以防止未经由导光板(12)而超过出射面(12C)所行进的光线之发生,并提供均等的辉度之照明光。
申请公布号 TW592310 申请公布日期 2004.06.11
申请号 TW093201549 申请日期 2000.04.21
申请人 恩普拉斯股份有限公司;日亚化学工业股份有限公司 发明人 小野敏明
分类号 G02B6/00 主分类号 G02B6/00
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路八十号六楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路八十号六楼
主权项 1.一种导光板,具有用以输入来自使用点状发光元件之发光部之光的入射端面、用以输出光的出射面、及背向出射面的背面,入射端面之至少一部分,系包含有向导光板之厚度方向延伸的复数个沟,沟,系至少在出射面的附近形成随着靠近出射面而逐渐减少深度者。2.如申请专利范围第1项之导光板,其中,沟系具备有平坦的斜面对。3.如申请专利范围第1或2项之导光板,其中,沟系被限定形成于入射端面与出射面相碰的边缘之正前方者。4.如申请专利范围第1或2项之导光板,其中,沟系在最接近背面之位置形成最深者。5.如申请专利范围第1或2项之导光板,其中,沟系在背面之附近,形成随着靠近背面而逐渐减少深度者。6.一种侧光型面光源装置,包含具有使用点状发光元件之至少一个局部发光部的一次光源、及并设于一次光源之附近的导光板,导光板,系具有用以输入来自一次光源之光的入射端面、用以输出光的出射面及背向出射面的背面,而在入射端面之至少对应发光部的位置上,设有向导光板之厚度方向延伸的复数个沟,沟系至少在出射面之附近形成随着出射面而逐渐减少深度者。7.如申请专利范围第6项之侧光型面光源装置,其中,沟系具备有平坦的斜面对。8.如申请专利范围第6或7项之侧光型面光源装置,其中,沟系被限定形成于入射端面与出射面相碰的边缘之正前方者。9.如申请专利范围第6或7项之侧光型面光源装置,其中,沟系在最接近背面之位置形成最深者。10.如申请专利范围第6或7项之侧光型面光源装置,其中,沟系在背面之附近形成随着靠近背面而逐渐减少深度者。11.一种液晶显示装置,系使用侧光型面光源装置以进行液晶显示面板之照明,侧光型面光源装置,系包含具有使用点状发光元件之至少一个局部发光部的一次光源、及并设于前述一次光源之附近的导光板,导光板,系具有用以输入来自一次光源之光的入射端面、用以输出光的出射面及背向出射面的背面,而在入射端面之至少对应发光部的位置上,设有向导光板之厚度方向延伸的复数个沟,沟,系至少在出射面之附近,形成随着出射面而逐渐减少深度者。12.如申请专利范围第11项之侧光型面光源装置,其中,沟系具备有平坦的斜面对。13.如申请专利范围第11或12项之侧光型面光源装置,其中,沟系被限定形成于入射端面与出射面相碰的边缘之正前方者。14.如申请专利范围第11或12项之侧光型面光源装置,其中,沟系在最接近背面之位置形成最深者。15.如申请专利范围第11或12项之侧光型面光源装置,其中,沟系在背面之附近形成随着靠近背面而逐渐减少深度者。图式简单说明:第1图系以分解斜视图显示本创作之侧光型面光源装置之全体配置的概略。第2图系为了说明形成于入射端面之沟的一个功能,而就一个发光部与对应该发光部而设的沟,显示在与出射面平行的平面上所切断的截面图。第3图系为了说明形成于入射端面之沟的另一个功能,而显示沿着第1图中之线F-F的部分截面图。第4图系显示形成于入射端面之沟之深度推移之变形例的示意图。第5图系显示形成于入射端面之沟之深度推移之另一变形例的示意图。第6图系以分解斜视图显示利用点状发光源之以往之侧光型面光源装置之一例。第7图系显示沿着图6中之线A-A之截面构造的截面图。
地址 日本
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