| 主权项 |
1.一种电浆显示面板,其系将多数个发光单元形成于对向配置着之前面面板与背面面板之间隙而成之电浆显示面板者,其中特征在于:至少在一部分区域,形成有由薄膜结晶所成之结晶萤光体膜。2.如申请专利范围第1项所述之电浆显示面板,其特征在于:在前述前面面板中之至少一部分的发光单元适合部位,形成有前述结晶萤光体膜。3.如申请专利范围第2项所述之电浆显示面板,其特征在于:前述结晶萤光体膜,具有可视光透射系数至少成为85%之膜厚。4.如申请专利范围第3项所述之电浆显示面板,其特征在于:前述多数个发光单元,系由红色发光单元群、绿色发光单元群及蓝色发光单元群所构成;前述结晶萤光体膜,系在前述三个发光单元群之中,形成在一个或二个之发光单元群适合部位。5.如申请专利范围第4项所述之电浆显示面板,其特征在于:形成有前述结晶萤光体膜之前面面板部位,系绿色发光单元群及蓝色发光单元群之适合部位。6.如申请专利范围第4项所述之电浆显示面板,其特征在于:形成有前述结晶萤光体膜之前面面板部位,系蓝色发光单元群之适合部位。7.如申请专利范围第3项所述之电浆显示面板,其特征在于:前述前面面板,系在前面基板上配有多数个电极,而配有前述电极之前述基板上即层合电介质及保护膜而成;前述结晶萤光体膜,系形成在前述保护膜之面上,或前述电介质层与保护膜之层间。8.如申请专利范围第7项所述之电浆显示面板,其特征在于:前述结晶萤光体膜,系形成在前述保护膜之面上而成;前述电极之适合部位具有缺口部。9.如申请专利范围第2项所述之电浆显示面板,其特征在于:于形成在前述背面面板上之隔墙及背面面板之至少一方的前述单元适合部位,形成有由萤光体粒子群所成之萤光体层。10.如申请专利范围第9项所述之电浆显示面板,其特征在于:前述结晶萤光体膜及由萤光体粒子群所成之萤光体层,系由不同组成之萤光体材料所形成。11.如申请专利范围第10项所述之电浆显示面板,其特征在于:为前述结晶萤光体膜之形成而用之材料,系碰撞激励型之萤光体材料。12.如申请专利范围第2项所述之电浆显示面板,其特征在于:前述背面面板,系在前面基板上配有多数个电极,而在配有前述电极之背面基板上即形成有电介质层;前述电介质层,系在中间未介有前述结晶萤光体层或由萤光体粒子群所成之萤光体层的任何一方下,面对于前述发光单元之内部空间。13.如申请专利范围第12所述之电浆显示面板,其特征在于:形成在前述背面面板上之隔墙,系在中间未介有前述结晶萤光体膜或由萤光体粒子所成之萤光体层的任一方下,面对于前述发光单元之内部空间。14.如申请专利范围第12项所述之电浆显示面板,其特征在于:在形成于前述背面面板上之隔墙的前述发光单元适合部位,形成有由萤光体粒子群所成之萤光体层或由薄膜结晶所成之萤光体膜。15.如申请专利范围第12项乃至第14项之任一项所述之电浆显示面板,其特征在于:前述背面面板,至少具有85%之可视光反射率。16.如申请专利范围第12项所述之电浆显示面板,其特征在于:在前述电介质层之面上,或,层内,形成有具有可视光反射机能之区域。17.如申请专利范围第2项所述之电浆显示面板,其特征在于:前述前面面板具有位址电极;且,前述背面面板具有显示电极。18.一种电浆显示面板,其系在对向配置着之前面面板与背面面板之间隙,形成多数个发光单元而成之电浆显示面板者,其中特征在于:前述背面面板,具有电极;在前述背面面板中之前述电极上,形成由薄膜结晶所成之结晶萤光体膜,以夹着一具有将可视光向前面面板侧反射机能的区域。19.如申请专利范围第18项所述之电浆显示面板,其特征在于:在前述可视光反射层的形成有前述结晶萤光体膜之那一边的面,形成有凹凸以便扩大有效表面积。20.一种电浆显示面板之制造方法,其系于前面面板及背面面板中之至少一方,备有一用以形成由薄膜结晶所成之萤光体膜的萤光体膜形成步骤之电浆显示面板制造方法者,其中特征在于:前述萤体膜形成步骤,系在减压氛围气下经真空制膜过程,形成前述萤光体膜。21.如申请专利范围第20项所述之电浆显示面板之制造方法,其特征在于:于前述萤光体膜形成步骤中,用以形成前述萤光体膜者为前述前面面板。22.如申请专利范围第21项所述之电浆显示面板之制造方法,其特征在于:前述萤光体膜形成步骤,系使用气相成长方法使前述薄膜结晶成长,以形成前述萤光体膜。23.如申请专利范围第22项所述之电浆显示面板之制造方法,其特征在于:用于前述萤光体膜形成步骤者,系从真空蒸镀法、溅射法及CVD法中选出之一方法。24.如申请专利范围第22项所述之电浆显示面板之制造方法,其特征在于:前述萤光体膜形成步骤,系在含氧之减压氛围气下实施。25.如申请专利范围第22项所述之电浆显示面板之制造方法,其特征在于:前述萤光膜形成步骤,系在还原性之减压氛围下实施。26.如申请专利范围第20项所述之电浆显示面板之制造方法,其特征在于:前述电浆显示面板之制造方法,具有用来形成前面面板之步骤;用来形成前述前面面板之步骤,具有用来形成保护膜之子步骤;用来形成前述保护膜之子步骤及萤光体膜形成步骤,系在步骤间不介入其他工程下连续实施。27.如申请专利范围第26项所述之电浆显示面板之制造方法,其特征在于:前述萤光体膜形成步骤及用来形成前述保护膜之子步骤,系在维持不把前面面板暴露于大气等之状态下实施。28.如申请专利范围第20项所述之电浆显示面板之制造方法,其特征在于:于前述萤光体膜形成步骤之前述真空制膜过程,加热至少要形成萤光体膜之区域。29.一种电浆显示面板之制造方法,其系备有一用来形成第一萤光体层于前面面板之第一步骤、及一用来形成第三萤光体层于背面面板之第二步骤的电浆显示面板制造方法者,其中特征在于:前述第一步骤及第二步骤中,一方之步骤,为一用来形成由薄膜结晶所成之结晶萤光体膜的步骤,而另一方之步骤,即为一用来形成由萤光体粒子群所成之萤光体层的步骤。30.一种电浆显示面板,其系使用申请专利范围第20项或申请专利范围第29项所述之电浆显示面板制造方法来制作。31.一种电浆显示面板显示装置,备有:具有申请专利范围第30项之特征的电浆显示面板;及用来驱动此电浆显示面板之驱动电路。32.一种电浆显示面板显示装置,备有:申请专利范围第1项或申请专利范围第18项所述之电浆显示面板;及用来驱动此电浆显示面板之驱动电路。图式简单说明:第1图,系显示关于实施形态1之AC型PDP的斜视图(部分断面图)。第2图,系第1图之X-X断面图。第3图,系显示由第1图之PDP及驱动电路所成之PDP显示装置的构成图。第4图,系显示用来形成第一萤光体膜之EB蒸镀装置的构成图。第5图,系显示第4图中之电子枪的构成图。第6图,系显示藉助X线绕射之基板温度与绕射强度之关系的图表。第7图为一模式图,系显示入射于薄膜结晶之萤光体膜的紫外线之径路。第8图为一模式图,系显示入射于薄膜结晶之萤光体膜的紫外线之径路。第9图,系显示萤光体评估用样品之概略图。第10图为一图表,系显示由薄膜结晶所成之萤光体膜的膜厚与亮度之关系。第11图,系第1图之Y-Y断面图。第12图,系膜厚与相对亮度之关系图。第13图为一断面图,系显示关于实施形态2之AC型PDP之一部分。第14图为一断面图,系显示电介质层与电介质保护膜间插入有第一萤光体膜的前面面板。第15图为一断面图,系显示关于实施形态3之AC型PDP之一部分。第16图,系显示习用AC型PDP之斜视图(部分断面图)。 |
