| 主权项 |
1.一种电极基板,包含:一基板;一第一电极,系形成于该基板之一侧;以及一阻隔层,系形成于该第一电极之上,该阻隔层之侧壁面具有一高低差之纹路。2.如申请专利范围第1项所述之电极基板,其中该基板系选自玻璃基板、塑胶基板、及柔性基板其中之一。3.如申请专利范围第1项所述之电极基板,其中该第一电极系导电之金属氧化物电极层。4.如申请专利范围第1项所述之电极基板,其中该第一电极系选自氧化铟锡、及氧化铝锌之一所形成之电极层。5.如申请专利范围第1项所述之电极基板,其中该阻隔层系不导电物质。6.如申请专利范围第5项所述之电极基板,其中该阻隔层系光阻。7.如申请专利范围第1项所述之电极基板,其中该阻隔层侧壁之纹路系为锯齿状。8.如申请专利范围第1项所述之电极基板,其中该阻隔层侧壁之纹路系为波浪状。9.如申请专利范围第1项所述之电极基板,其中该阻隔层侧壁之纹路系为不规则状。10.如申请专利范围第6项所述之电极基板,其中该光阻系感光型聚亚醯胺光阻。11.如申请专利范围第6项所述之电极基板,其中该光阻系感光型酚醛树脂类光阻。12.一种电极基板制造方法,包含下列步骤:一第一电极形成步骤,系于一基板上形成一第一电极;以及一阻隔层形成步骤,系于该第一电极上形成一阻隔层,且该阻隔层之侧壁具有一高低差之纹路。13.如申请专利范围第12项所述之电极基板制造方法,其中该基板系选自玻璃基板、塑胶基板、及柔性基板其中之一。14.如申请专利范围第12项所述之电极基板制造方法,其中该第一电极系导电之金属氧化物电极层。15.如申请专利范围第12项所述之电极基板制造方法,其中该第一电极系选自氧化铟锡、及氧化铝锌之一所形成之电极层。16.如申请专利范围第12项所述之电极基板制造方法,其中该阻隔层系不导电物质。17.如申请专利范围第16项所述之电极基板制造方法,其中该阻隔层系光阻。18.如申请专利范围第12项所述之电极基板制造方法,其中该阻隔层侧壁之波纹系以曝光显影方式形成,其系利用光束所产生之驻波效应来进行曝光,再经显影后形成波纹。19.如申请专利范围第12项所述之电极基板制造方法,其中该阻隔层侧壁之纹路系为锯齿状。20.如申请专利范围第12项所述之电极基板制造方法,其中该阻隔层侧壁之纹路系为波浪状。21.如申请专利范围第12项所述之电极基板制造方法,其中该阻隔层侧壁之纹路系为不规则状。22.如申请专利范围第17项所述之电极基板制造方法,其中该光阻系感光型聚亚醯胺光阻。23.如申请专利范围第17项所述之电极基板制造方法,其中该光阻系感光型酚醛树脂类光阻。24.一种有机发光面板,包含:一基板;一第一电极,系形成于该基板之一侧;一阻隔层,系形成于该第一电极之上,该阻隔层之侧壁面具有一高低差之纹路;一有机发光层,系形成于阻隔层之间;以及一第二电极,系形成于该有机发光层之上。25.如申请专利范围第24项所述之有机发光面板,其中该阻隔层系不导电物质。26.如申请专利范围第25项所述之有机发光面板,其中该阻隔层系光阻。27.如申请专利范围第24项所述之有机发光面板,其中该阻隔层侧壁之纹路系为锯齿状。28.如申请专利范围第24项所述之有机发光面板,其中该阻隔层侧壁之纹路系为波浪状。29.如申请专利范围第24项所述之有机发光面板,其中该阻隔层侧壁之纹路系为不规则状。30.如申请专利范围第26项所述之有机发光面板,其中该光阻系感光型聚亚醯胺光阻。31.如申请专利范围第26项所述之有机发光面板,其中该光阻系感光型酚醛树脂类光阻。图式简单说明:图1系习知电极基板之画素单元的立体示意图。图2系本发明电极基板之画素单元的立体示意图。图3系本发明电极基板之画素单元的另一立体示意图。图4系本发明电极基板之画素单元的又一立体示意图。图5系本发明之有机发光面板之画素单元的立体示意图。图6系本发明之有机发光面板之画素单元的另一立体示意图。 |
