| 主权项 |
1.一种光学资讯记录媒体之制造方法,包含有以下步骤:将于其一主面上形成薄膜且具有沟槽或凹凸点并具透光性之压模与厚度0.3mm以下之第2基板,于以前述构槽或凹凸点其内侧之状态下,利用放射线硬化性树脂加以贴合;使前述放射线硬化性树脂硬化;剥离前述压模,将前述沟槽或凹凸点形成于前述第2基板上;于前述第2基板之前述沟槽或凹凸点上形成金属膜或记录膜,并将第2资讯记录层形成于前述第2基板上;及以前述第2资讯记录层为内侧,将第1基板与业已形成前述第2资讯记录层之前述第2基板加以贴合。2.如申请专利范围第1项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该第1基板于与前述第2基板贴合之面上具有第1资讯记录层。3.如申请专利范围第1或2项的光学资讯记录媒体之制造方法,其系自前述第2基板侧照射用以记录或再生之光射线。4.如申请专利范围第1项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该压模系藉射出成形而形成。5.如申请专利范围第4项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该压模系由树脂材料所构成。6.如申请专利范围第5项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该树脂材料系聚碳酸酯。7.如申请专利范围第1项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中,利用前述放射线硬化性树脂贴合前述压模与前述第2基板时,系将藉前述放射线硬化性树脂而一体化之前述压模与前述第2基板加以旋转,使前述放射线硬化性树脂大致均匀地延伸。8.如申请专利范围第1项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中,利用前述放射线硬化性树脂贴合前述压模与前述第2基板时,系于前述压模及前述第2基板中之至少一者,将前述放射线硬化性树脂大致均匀地配置于部份或全部贴合面上;然后,于真空中贴合前述压模与前述第2基板。9.如申请专利范围第1项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该薄膜系金属膜成半金属膜。10.如申请专利范围第9项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该金属膜或半金属膜系Al或以Al为主成分之金属。11.如申请专利范围第9项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该金属膜或半金属膜系Si或以Si为主成分之金属。12.如申请专利范围第1项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该薄膜上系涂布有离型剂。13.如申请专利范围第1项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该第2基板之厚度约为0.1mm。14.如申请专利范围第1项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述第1基板与前述第2基板贴合后的压板部分之厚度约为1.2mm。15.如申请专利范围第1项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述压模之厚度大致与前述第1基板之厚度相同。16.如申请专利范围第1项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述压模及前述第2基板皆具有中心孔,且,前述压模之中心孔与前述第2基板之中心孔的孔径相异。17.如申请专利范围第1项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述压模与前述第2基板之外周径相异。18.如申请专利范围第1项的光学资讯记录媒体之制造方法,其系于具有前述沟槽或点之前述第2基板的具有前述沟槽或点之面及反面贴合支撑基板,再于前述沟槽或点上形成反射膜或记录膜,形成前述第2资讯记录层。19.如申请专利范围第18项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述第2基板与前述支撑基板贴合之厚度,大致与前述压模或前述第1基板之厚度相同。20.一种光学资讯记录媒殷之制造方法,包含有以下步骤:将于其一主面上具有沟槽或凹凸点且具透光性之压模与具有第1资讯记录层之第1基板,于前述沟槽或凹凸点与前述第1资讯记录层相对向之状态下,利用放射线硬化性树脂加以贴合,并使前述放射线硬化性树脂硬化后,剥离前述压模,藉此于前述第1基板之前述第1资讯记录层上形成前述沟槽或凹凸点;于前述第1基板之沟槽或凹凸点上形成金属膜或记录膜后,将第2资讯记录层形成于前述第1基板上;及进而,于前述第2资讯记录层上形成光透过层。21.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该光透过层之厚度为0.3mm以下。22.如申请专利范围第20或21项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该光透过层之厚度约为0.1mm。23.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该光透过层系利用放射线硬化性树脂而形成。24.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其系贴合前述第1基板与第2基板来形成前述光透过层。25.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该压模系藉射出成形而形成。26.如申请专利范围第25项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该压模系由树脂所构成。27.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中,利用前述放射线硬化性树脂贴合前述压模与前述第1基板时,系将藉前述放射线硬化性树脂而一体化之前述压模与前述第1基板加以旋转,使前述放射线硬化性树脂大致均匀地延伸。28.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中,利用前述放射线硬化性树脂贴合前述压模与前述第1基板时,系于前述压模及前述第1基板中之至少一者,将前述放射线硬化性树脂大致均匀地配置于部份或全部贴合面上;然后,于真空中贴合前述第1基板与前述压模。29.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其系于前述压模之前述凹凸点上涂布离型剂。30.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述压模之前述沟槽或凹凸点上系形成有薄膜。31.如申请专利范围第30项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该薄膜系金属膜或半金属膜。32.如申请专利范围第31项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该金属膜或半金属膜系Si或以Si为主成分之金属。33.如申请专利范围第30项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该薄膜系介电体。34.如申请专利范围第30项的光学资讯记录媒体之制造方法,其系于前述薄膜上涂布离型剂。35.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中,将前述压模与前述第1基板藉前述放射线硬化性树脂一体化后,使前述放射线硬化性树脂硬化时,系与前述压模之主面大致平行地照射放射线。36.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中压板部分之厚度约为1.2mm。37.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述压模之厚度大致与前述第1基板之厚度相同。38.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述压模及前述第1基板皆具有中心孔,且,前述压模之中心孔与前述第1基板之中心孔的孔径大致相同。39.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述压模与前述第1基板之外周径相异。40.一种光学资讯记录媒体之制造方法,包含有:一第1步骤,系于其一主面上具有沟槽或凹凸点之压模上,于前述沟槽或凹凸点上配置第1放射线硬化性树脂,并使前述第1放射线硬化性树脂硬化者;一第2步骤,系将前述压模与于其一主面上具有第1资讯记录层之第1基板,于前述第1放射线硬化性树脂与前述第1资讯记录层相对向之状态下,利用第2放射线硬化性树脂加以贴合,并使前述第2放射线硬化性树脂硬化者;一第3步骤,系剥离前述压模,于前述第1基板上形成由前述第1放射线硬化性树脂所构成之前述沟槽或凹凸点者;及一第4步骤,系于前述第1基板之沟槽或凹凸点上形成反射膜或记录膜后,形成第2资讯记录层者。41.一种光学资讯记录媒体之制造方法,包含有:一第1步骤,系于其一主面上具有第1资讯记录层之第1基板上,于前述第1资讯记录层上配置第2放射线硬化性树脂,并使前述第2放射线硬化性树脂硬化者;一第2步骤,系将于其一主面具有沟槽或凹凸点之压模与前述第1基板,于前述沟槽或凹凸点与前述第2放射线硬化性树脂相对向之状态下,利用第1改射线硬化性树脂加以贴合,并使前述第1放射线硬化性树脂硬化者;一第3步骤,系剥离前述压模,于前述第1基板上形成由前述第1放射线硬化性树脂所构成之前述沟槽或凹凸点者;及一第4步骤,系于前述第1基板之沟槽或凹凸点上形成反射膜或记录膜后,形成第2资讯记录层者。42.一种光学资讯记录媒体之制造方法,包含有:一第1步骤,系于其一主面上具有沟槽或凹凸点之压模上,于前述沟槽或凹凸点上配置第1放射线硬化性树脂者;一第2步骤,系于其一主面上具有第1资讯记录层之第1基板的第1资讯记录层上配置第2放射线硬化性树脂者;一第3步骤,系将前述压模与前述第1基板,于前述第1放射线硬化性树脂与前述第2放射线硬化性树脂相对向之状态下加以贴合,并使前述第1放射线硬化性树脂及前述第2放射线硬化性树脂硬化者;一第4步骤,系剥离前述压模,于前述第1基板上形成由前述第1放射线硬化性树脂所构成之前述沟槽或凹凸点者;及一第5步骤,系于前述第1基板之沟槽或凹凸点上形成反射膜或记录膜后,形成第2资讯记录层者。43.一种光学资讯记录媒体之制造方法,包含有:一第1步骤,系于其一主面上具有沟槽或凹凸点之压模上的前述沟槽或凹凸点上,形成由一层或复数层构成之第1薄膜;一第2步骤,系于前述第1薄膜上形成由一层或复数层构成之第2薄膜者;一第3步骤,系将前述压模与于其一主面上具有第1资讯记录层之第1基板,于前述第2薄膜与前述第1资讯记录层相对向之状态下,利用放射线硬化性树脂来加以贴合者;一第4步骤,系于前述第1薄膜与前述第2薄膜之界面剥离前述压模,以于前述第1基板上形成由前述第2薄膜所构成之前述沟槽或凹凸点者;及一第5步骤,系于前述第1基板之前述沟槽或凹凸点上形成反射膜或记录膜,藉此形成第2资讯记录层者。44.如申请专利范围第40.41.42或43项的光学资讯记录媒体之制造方法,其系于前述第1基板之前述第1资讯记录层上,预先配置第3放射线硬化性树脂,并使该第3放射线硬化性树脂硬化。45.如申请专利范围第44项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该第3放射线硬化性树脂之铅笔硬度为B以上。46.如申请专利范围第44项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该第3放射线硬化性树脂至少自前述第1资讯记录层之内周端配置至外周端。47.如申请专利范围第40.41.42或43项的光学资讯记录媒体之制造方法,其系具有一于前述第2资讯记录层上形成光透过层之步骤。48.如申请专利范围第47项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该光透过层之厚度为0.3mm以下。49.如申请专利范围第48项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该光透过层之厚度约为0.1mm。50.如申请专利范围第47项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该光透过层系由放射线硬化性树脂所构成。51.如申请专利范围第47项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该光透过层系由放射线硬化性树脂及树脂基板所构成。52.如申请专利范围第40.41或42项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该压模至少可透过部分使第1放射线硬化性树脂或第2放射线硬化性树脂硬化之波长的放射线。53.如申请专利范围第43项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述压模、前述第1薄膜及前述第2薄膜至少可透过部分使放射线硬化性树脂硬化之波长的放射线。54.如申请专利范围第40.41.42或43项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该压模系由树脂材料所构成。55.如申请专利范围第54项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该压模系藉射出成形而形成。56.如申请专利范围第54项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中该压模系由聚碳酸酯所构成。57.如申请专利范围第40项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中,利用前述第2放射线硬化性树脂贴合前述压模与前述第1基板时,系将藉前述第2放射线硬化性树脂而一体化之前述压模与前述第1基板加以旋转,以使前述第2放射线硬化性树脂大致均匀地延伸。58.如申请专利范围第41项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中,利用前述第1放射线硬化性树脂贴合前述压模与前述第1基板时,系将藉前述第1放射线硬化性树脂而一体化之前述压模与前述第1基板加以旋转,以使前述第1放射线硬化性树脂大致均匀地延伸。59.如申请专利范围第43项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中,利用前述放射线硬化性树脂贴合前述压模与前述第1基板时,系将藉前述放射线硬化性树脂而一体化之前述压模与前述第1基板加以旋转,以使前述放射线硬化性树脂大致均匀地延伸。60.如申请专利范围第40项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中,利用前述第2放射线硬化性树脂贴合前述压模与前述第1基板时,系将前述第2放射线硬化性树脂大致均匀地配置于前述压模或前述第1基板中之至少一者的部份或全部贴合面上;然后,于真空中贴合前述压模与前述第1基板。61.如申请专利范围第41项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中,利用前述第1放射线硬化性树脂贴合前述压模与前述第1基板时,系将前述第1放射线硬化性树脂大致均匀地配置于前述压模或前述第1基板中之至少一者的部份或全部贴合面上;然后,于真空中贴合前述压模与前述第1基板。62.如申请专利范围第42项的光学资讯记录媒体之制造方法,其系将前述压模与前述第1基板,于前述第1放射线硬化性树脂与前述第2放射线硬化性树脂相对向之状态下,于真空中加以重叠并贴合。63.如申请专利范围第43项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中,利用前述放射线硬化性树脂贴合前述压模与前述第1基板时,系将前述放射线硬化性树脂大致均匀地配置于前述压模或前述第1基板中之至少一者的部份或全部贴合面上;然后,于真空中贴合前述第1基板与前述压模。64.如申请专利范围第40项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述第1放射线硬化性树脂之内周端径系等于或小于前述第2放射线硬化性树脂之内周端径。65.如申请专利范围第40或42项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述第1放射线硬化性树脂系配置至前述压模之外周端。66.如申请专利范围第41项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述第2放射线硬化性树脂之内周端径系等于或小于前述第1放射线硬化性树脂之内周端径。67.如申请专利范围第41或42项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述第2放射线硬化性树脂系配置至前述第1基板之外周端。68.如申请专利范围第43项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述第1薄膜及前述第2薄膜之内周端径系等于或小于前述放射线硬化性树脂之内周端径。69.如申请专利范围第43项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述第1薄膜及前述第2薄膜系形成至前述压模之外周端。70.如申请专利范围第40.41或42项的光学资讯记录媒体之制造方法,其系于前述压模之前述沟槽或凹凸点上施行用以利于离型之处理。71.如申请专利范围第70项的光学资讯记录媒体之制造方法,其系于前述压模之沟槽或凹凸点上涂布离型剂。72.如申请专利范围第70项的光学资讯记录媒体之制造方法,其系于前述压模之前述沟槽或凹凸点上形成以金属为主成分之膜或介电体膜。73.如申请专利范围第43项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述第1薄膜系Au,而前述第2薄膜则为SiO2。74.如申请专利范围第40.41.42或43项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述压模及前述第1基板皆具有中心孔,且,前述压模之中心孔与前述第1基板之中心孔的孔径大致相同。75.如申请专利范围第1项的光学资讯记录媒体之制造方法,其系具有一于利用放射线硬化性树脂贴合前述树脂压模与第2基板时,将前述树脂压模加以旋转,以使前述放射线硬化性树脂大致均匀地延伸之步骤;而,前述延伸之步骤系于较前述硬化之步骤低的压力下进行。76.如申请专利范围第20项的光学资讯记录媒体之制造方法,其系具有一于利用放射线硬化性树脂贴合前述树脂压模与第1基板时,将前述树脂压模加以旋转,以使前述放射线硬化性树脂大致均匀地延伸之步骤;而,前述延伸之步骤系于较前述硬化之步骤低的压力下进行。77.如申请专利范围第40或41项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述第2步骤具有一将前述树脂压模加以旋转,以使前述放射线硬化性树脂大致均匀地延伸之步骤;而,前述延伸之步骤系于较前述硬化之步骤低的压力下进行。78.如申请专利范围第42或43项的光学资讯记录媒体之制造方法,其中前述第3步骤具有一将前述树脂压模加以旋转,以使前述放射线硬化性树脂大致均匀地延伸之步骤;而,前述延伸之步骤系于较前述硬化之步骤低的压力下进行。79.一种光学资讯记录媒体,系以申请专利范围第1至78项中任一项之制造方法所制造者。图式简单说明:第1图系说明有关本发明第1实施形态之光学碟片制造方法的整体流程之图。第2(a)图系显示由本发明之光学碟片制造方法所制造之光学碟片的构造之图,第2(b)图则系用以显示由本发明之光学碟片制造方法所制造之光学碟片的尺寸之图。第3(a)~(c)图系说明第1实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(1)。第4(a)~(c)图系说明第1实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(2)。第5(a)及(b)图系说明第1实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(3)。第6(a)~(c)图系说明第1实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(4)。第7图系说明第1实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(5)。第8(a)及(b)图系说明第1实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(6)。第9图系说明有关本发明第2实施形态之光学碟片制造方法的整体流程之图。第10(a)~(c)图系说明第2实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(1)。第11(a)及(b)图系说明第2实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(2)。第12(a)及(b)图系说明第2实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(3)。第13(a)及(b)图系说明第2实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(4)。第14(a)及(b)图系说明第2实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(5)。第15(a)及(b)图系说明第2实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(6)。第16(a)及(b)图系说明第2实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(7)。第17图系说明有关本发明第3实施形态之光学碟片制造方法的整体流程之图。第18(a)及(b)图系说明第3实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(1)。第19(a)及(b)图系说明第3实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(2)。第20图系说明有关本发明第4实施形态之光学碟片制造方法的整体流程之图。第21(a)~(c)图系说明第4实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(1)。第22(a)~(c)图系说明第4实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(2)。第23(a)~(c)图系说明第4实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(3)。第24(a)及(b)图系说明第4实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(4)。第25图系说明第4实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(5)。第26(a)~(c)图系说明第4实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(6)。第27(a)及(b)图系说明第4实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(7)。第28图系说明有关本发明第5实施形态之光学碟片制造方法的整体流程之图。第29(a)及(b)图系说明第5实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图。第30图系说明有关本发明第6实施形态之光学碟片制造方法的整体流程之图。第31(a)~(c)图系说明第6实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图。第32图系说明有关本发明第7实施形态之光学碟片制造方法的整体流程之图。第33(a)~(c)图系说明第7实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(1)。第34(a)~(c)图系说明第7实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(2)。第35(a)及(b)图系说明第7实施形态之光学碟片制造方法的步骤之图(3)。第36(a)及(b)图系说明第8实施形态的具有多层构造之光学碟片的构造之图。 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