| 主权项 |
1.一种可控制式转轴,其包含有:一动力机构,系提供转轴动力之来源,该动力机构具有一动力输出;一动力传输机构,设于该动力机构之输出端,以连结动力机构与被装置物,并传递动力机构之动力给被装置物。2.如申请专利范围第1项所述之可控制式转轴,其中,该动力机构为一气压棒(gas spring)。3.如申请专利范围第2项所述之可控制式转轴,其中,该气压棒具有一闭气机构。4.如申请专利范围第1项所述之可控制式转轴,其中,该动力传输机构为一齿轮组机构。5.如申请专利范围第1项所述之可控制式转轴,其中,该动力传输机构为一凸轮机构,该凸轮机构包含有一凸轮轴、以及一个能在凸轮轴上旋转滑移之滑套,其中凸轮轴轴设于动力机构输出位置之轴心处,而滑套另设置于被装置物枢转位置。6.如申请专利范围第5项所述之可控制式转轴,其中,在凸轮轴之表面具有螺旋状轨槽,并在滑套之内表面具有凸出之凸柱,该凸柱则置于轨槽内,并能任意的在轨槽内滑移。7.如申请专利范围第2项所述之可控制式转轴,其中,系在该气压棒(gasspring)之轴心设具有一限制机构,令轴心只能作直线运动,该限制机构至少包含了一限制件及一导轨槽者。8.如申请专利范围第1项所述之可控制式转轴,其中,该转轴并具有一制动机构,制动机构系设于动力机构之输出或动力传输机构上。9.如申请专利范围第8项所述之可控制式转轴,其中,该制动机构主要包含有:一制动器,系与动力机构之输出或动力传输机构呈接触或分离状;一弹性件,具有压力地令制动器与动力机构之输出或动力传输机构恒呈接触状态。10.如申请专利范围3项所述之可控制式转轴,其中,该闭气机构并可透过一远端控制机构来操作。11.如申请专利范围第8项所述之可控制式转轴,其中,该制动机构并可透过一远端控制机构来操作。12.如申请专利范围第9项所述之可控制式转轴,其中,该制动机构并可透过一远端控制机构来操作。13.如申请专利范围第9项所述之可控制式转轴,其中,该制动机构并具有一调整机构,以调整制动机构对动力传输机构之压力。14.如申请专利范围第1项所述之可控制式转轴,其中,另具有一副转轴做为本案之选择性配备,其主要包含有一外筒、一置于外筒内之内筒,并由外筒及内筒各往外置有固定座,以固设于被装置物之本体及盖体之另一转轴位置上;另于外筒及内筒间之表面则涂有阻尼胶液。15.一种可控制式枢转盖体之装置,包含有:一本体;至少一附属之盖体(lid);及至少一个可控制式转轴,系装置在该本体及盖体间之枢转位置,其进一步包括有:一动力机构,系提供转轴动力之来源,该动力机构具有一动力输出;一动力传输机构,设于该动力机构之输出端,以连结动力机构与本体或其盖体,并传递动力机构之动力给本体或其盖体。16.如申请专利范围第15项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该动力机构为一气压棒(gas spring)。17.如申请专利范围第16项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该气压棒具有一闭气机构。18.如申请专利范围第15项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该动力传输机构为一齿轮组机构。19.如申请专利范围第15项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该动力传输机构为一凸轮机构,该凸轮机构包含有一凸轮轴、以及一个能在凸轮轴上旋转滑移之滑套,其中凸轮轴轴设于动力机构输出位置之轴心处,而滑套另设于本体或盖体枢转位置。20.如申请专利范围第19项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,在凸轮轴之表面具有螺旋状轨槽,并在滑套之内表面具有凸出之凸柱,该凸柱则置于轨槽内,并能任意的在轨槽内滑移。21.如申请专利范围第15项所述之可控制式枢转盖体之装置,其更进一步具有一副转轴,其主要包含有一外筒、一置于外筒内之内筒,并由外筒及内筒各延设有一固定座,以枢设于本体及盖体之另一枢转位置上;并于外筒及内筒间之表面则涂有阻尼胶液者。22.如申请专利范围第16项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,系在该气压棒轴心设具有一限制机构,令轴心只能作直线运动,该限制机构包含了一凸轨及一导轨者。23.如申请专利范围第15项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该转轴并具有一制动机构,制动机构设于动力机构之输出或动力传输机构上。24.如申请专利范围第23项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构主要包含有:一制动器,系与动力机构之输出或动力传输机构呈接触或分离状;一弹性件,具有压力地令制动器与动力机构之输出或动力传输机构恒呈接触状态。25.如申请专利范围第17项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该闭气机构并具有一远端控制机构。26.如申请专利范围第23项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构具有一远端控制机构。27.如申请专利范围第24项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构具有一远端控制机构。28.一种可控制式转轴,其包含:一动力机构,系提供转轴动力之来源,该动力机构具有一动力输出;一动力传输机构,设于该动力机构之输出端,以连结被装置物并传递动力机构之动力至被装置物;一制动机构,主要设于动力机构之输出或动力传输机构上,具有能限制动力传输机构之转动与否。29.如申请专利范围第28项所述之可控制式转轴,其中,该制动机构具有一调整机构,以调整制动机构对动力传输机构之压力。30.如申请专利范围第28项所述之可控制式转轴,其中,该动力机构为一种弹性元件装置者。31.如申请专利范围第30项所述之可控制式转轴,其中,该弹性元件装置包含有:一内筒,一侧呈开放状,另一侧呈封闭状系容置于外筒内,该封闭状之一侧则连设动力传输机构;一弹性元件,一边卡置于内筒内,另一边则卡置于外筒内。32.如申请专利范围第31项所述之可控制式转轴,其中,该弹性元件装置具有一调速机构,其主要为具有一调整盖旋设于外筒底部,藉由两者间之螺纹,令调整盖得以前进及后退,而弹性元件之一端则固定并限制在该调整盖内者。33.如申请专利范围第32项所述之可控制式转轴,其中,该调速机构并具有一固定机构,其主要包含有一由调整盖所延设出之固定件,以及在外筒上所设之位置件。34.如申请专利范围第28项所述之可控制式转轴,其中,该制动机构主要系包含有:一制动器,系与动力机构之动力输出或动力传输机构呈接触或分离状者;一弹性件,具有压力地令制动器与动力机构之输出或动力传输机构呈接触状态。35.如申请专利范围第28项所述之可控制式转轴,其中,该制动机构具有一远端控制机构。36.如申请专利范围第34项所述之可控制式转轴,其中,该制动机构具有一远端控制机构。37.如申请专利范围第28项所述之可控制式转轴,其中,该动力机构为一气压棒者。38.如申请专利范围第37项所述之可控制式转轴,其中,该气压棒具有一闭气机构,做为选择配备。39.如申请专利范围第38项所述之可控制式转轴,其中,该气压棒具有一远端控制机构。40.如申请专利范围第31项所述之可控制式转轴,其中,系在该弹性元件装置之内筒与外筒间填充有阻尼胶液。41.一种可控制式枢转盖体之装置,包含有:一本体;至少一附属之盖体(lid);及至少一个可以控制式转轴,系装置在该本体及盖体间之枢转位置,其进一步包括有:一动力机构,系提供转轴动力之来源,该动力机构具有一动力输出;一动力传输机构,设于该动力机构之输出端,以连结本体或盖体并传递动力机构之动力至本体或盖体;一制动机构,主要设于动力机构之动力输出或动力传输机构上,具有能限制动力传输机构之转动与否。42.如申请专利范围第41项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构具有一调整机构,以调整制动机构对动力传输机构之压力。43.如申请专利范围第41项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该动力机构为一种弹性元件装置者。44.如申请专利范围第43项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该弹性元件装置包含有:一内筒,一侧呈开放状,另一侧呈封闭状系容置于外筒内,该封闭状之一侧则连设动力传输机构;一弹性元件,一边卡置于内筒内,另一边则卡置于外筒内。45.如申请专利范围第44项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该弹性元件装置具有一调速机构,其主要为具有一调整盖旋设于外筒底部,令调整盖得以前进及后退,而弹性元件之一端则固定并限制在该调整盖内者。46.如申请专利范围第45项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该调速机构并具有一个固定机构,其主要包含有一由调整盖所延设出之固定件,以及在外筒上所设之位置件。47.如申请专利范围第41项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构主要系包含有:一制动器,系与动力机构之动力输出或动力传输机构呈接触或分离状者;一弹性件,具有压力地令制动器与储能机构之输出或动力传输机构呈接触状态。48.如申请专利范围第47项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构具有一远端控制机构者。49.如申请专利范围第41项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该动力机构为气压棒者。50.如申请专利范围第49项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该气压棒具有一闭气机构者。51.如申请专利范围第50项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该闭气机构具有一远端控制机构者。52.如申请专利范围第44项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该弹性元件装置之内筒与外筒间填充有阻尼胶液者。53.如申请专利范围第41项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构具有一远端控制机构。54.如申请专利范围第47项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构具有一远端控制机构。55.如申请专利范围第41项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,其更进一步具有一副转轴,其主要包含有一外筒、一置于外筒内之内筒,并由外筒及内筒各延设有一固定座以枢设于本体及盖体之另一枢转位置上;并于外筒及内筒间涂有阻尼胶液者。56.如申请专利范围第15项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该动力机构为马达者。57.如申请专利范围第24项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构并具有一调整机构,以调整制动机构对动力传输机构之压力。58.如申请专利范围第34项所述之可控制式转轴,其中,该制动机构并具有一调整机构,以调整制动机构对动力传输机构之压力。59.如申请专利范围第47项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构并具有一调整机构,以调整制动机构对动力传输机构之压力。60.一种可控制式枢转盖体之装置,包含有:一本体;至少一盖体;及至少一个可以控制式转轴,系装置在该本体及盖体间之枢转位置;以及一个远端控制机构,可以操控该可控制式转轴;而利用该远端控制机构,得以在本体或盖体外部利用触控方式操控该可控制式转轴以掀开盖体,以及触控方式来操作盖体定位在最适当之角度者。61.如申请专利范围第60项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该可控制式转轴包含有:一动力机构,具有一动力输出,系提供转轴动力之来源;一动力传输机构,设于该动力机构之输出端,以连结动力机构与本体或盖体,并传递动力机构之动力给本体或盖体。62.如申请专利范围第61项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该动力机构为一气压棒。63.如申请专利范围第62项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该气压棒具有一闭气机构。64.如申请专利范围第61项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该动力传输机构为一齿轮组机构。65.如申请专利范围第61项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该动力传输机构为一凸轮机构,该凸轮机构包含有一凸轮轴、以及一个能在凸轮轴上旋转滑移之滑套,其中凸轮轴轴设于动力机构输出位置之轴心处,而滑套另设于本体或盖体枢转位置。66.如申请专利范围第65项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,在凸轮轴之表面具有螺旋状轨槽,并在滑套之内表面具有凸出之凸柱,该凸柱则置于轨槽内,并能任意的在轨槽内滑移。67.如申请专利范围第60项所述之可控制式枢转盖体之装置,其更进一步具有一副转轴,其主要包含有一外筒、一置于外筒内之内筒,并由外筒及内筒各延设有一固定座,以枢设于本体及盖体之另一枢转位置上;并于外筒及内筒间之表面则涂有阻尼胶液者。68.如申请专利范围第62项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,系在该气压棒轴心设具有一限制机构,令轴心只能作直线运动,该限制机构包含了一凸轨及一导轨槽者。69.如申请专利范围第61项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该转轴并具有一制动机构,制动机构设于动力机构之输出或动力传输机构上。70.如申请专利范围第69项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构主要包含有:一制动器,系与动力机构之输出或动力传输机构呈接触或分离状;一弹性件,具有压力地令制动器与动力机构之输出或动力传输机构恒呈接触状态。71.如申请专利范围第63项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该闭气机构透过远端控制机构来操作。72.如申请专利范围第69项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构透过远端控制机构来操作。73.如申请专利范围第70项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构透过远端控制机构来操作。74.如申请专利范围第70项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构并具有一调整机构,以调整制动机构对动力传输机构之压力。75.如申请专利范围第60项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该可控制式转轴,其包含:一动力机构,系提供转轴动力之来源,该动力机构具有一动力输出;一动力传输机构,设于该动力机构之输出端,以连结被装置物之本体或盖体并传递动力机构之动力至被装置物之本体或盖体;一制动机构,主要设于动力机构之输出或动力传输机构上,具有能限制动力传输机构之转动与否。76.如申请专利范围第75项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构具有一调整机构,以调整制动机构对动力传输机构之压力。77.如申请专利范围第75项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该动力机构为一种弹性元件装置者。78.如申请专利范围第77项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该弹性元件装置包含有:一内筒,一侧呈开放状,另一侧呈封闭状系容置于外筒内,该封闭状之一侧则连设动力传输机构;一弹性元件,一边卡置于内筒内,另一边则卡置于外筒内。79.如申请专利范围第78项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该弹性元件装置具有一调速机构,其主要为具有一调整盖旋设于外筒底部,藉由两者间之螺纹,令调整盖得以前进及后退,而弹性元件之一端则固定并限制在该调整盖内者。80.如申请专利范围第79项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该调速机构并具有一固定机构,其主要包含有一由调整盖所延设出之固定件,以及在外筒上所设之位置件。81.如申请专利范围第75项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构主要系包含有:一制动器,系与动力机构之动力输出或动力传输机构呈接触或分离状者;一弹性件,具有压力地令制动器与动力机构之输出或动力传输机构呈接触状态。82.如申请专利范围第81项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构系藉由远端控制机构来操控。83.如申请专利范围第75项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该动力机构为气压棒者。84.如申请专利范围第83项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该气压棒具有一闭气机构。85.如申请专利范围第84项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该闭气机构系藉由远端控制机构来操作者。86.如申请专利范围第78项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,系在该弹性元件装置之内筒与外筒间填充有阻尼胶液。87.如申请专利范围第75项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构系藉由远端控制机构来操作者。88.如申请专利范围第81项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该制动机构系藉由远端控制机构来操作者。89.如申请专利范围第75项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该动力传输机构为一凸轮机构,其包含有一凸轮轴、以及一个能在凸轮轴上旋转滑移之滑套,其中凸轮轴轴设于动力机构输出位置之轴心处,而滑套另设置于被装置物枢转位置。90.如申请专利范围第89项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,在凸轮轴之表面具有螺旋状轨槽,并在滑套之内表面具有凸出之凸柱,该凸柱则置于轨槽内,并能任意的在轨槽内滑移。91.如申请专利范围第28项所述之可控制式转轴,其中,该动力传输机构为一凸轮机构,其包含有一凸轮轴、以及一个能在凸轮轴上旋转滑移之滑套,其中凸轮轴轴设于动力机构输出位置之轴心处,而滑套另设置于被装置物枢转位置。92.如申请专利范围第91项所述之可控制式转轴,其中,在凸轮轴之表面具有螺旋状轨槽,并在滑套之内表面具有凸出之凸柱,该凸柱则置于轨槽内,并能任意的在轨槽内滑移。93.如申请专利范围第89项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该凸轮轴机构与外筒间涂设有阻尼胶液者。94.如申请专利范围第91项所述之可控制式转轴,其中,该凸轮轴机构与外筒间涂设有阻尼胶液者。95.如申请专利范围第41项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该动力传输机构为一凸轮机构,其包含有一凸轮轴、以及一个能在凸轮轴上旋转滑移之滑套,其中凸轮轴轴设于动力机构输出位置之轴心处,而滑套另设置于被装置物枢转位置。96.如申请专利范围第95项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,在凸轮轴之表面具有螺旋状轨槽,并在滑套之内表面具有凸出之凸柱,该凸柱则置于轨槽内,并能任意的在轨槽内滑移。97.如申请专利范围第95项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该凸轮轴机构与外筒间涂设有阻尼胶液者。98.如申请专利范围第5项所述之可控制式转轴,其中,该凸轮轴机构与外筒间涂设有阻尼胶液者。99.如申请专利范围第19项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该凸轮轴机构与外筒间涂设有阻尼胶液者。100.如申请专利范围第65项所述之可控制式枢转盖体之装置,其中,该凸轮轴机构与外筒间涂设有阻尼胶液者。图式简单说明:第一图:系本发明可控制式转轴之第一种机构平面状态图。其中传输机构为凸轮机构第二图:系第一图之另一平面状态图。第三图:系本发明可控制式转轴之第二种机构平面状态图。其中传输机构为齿轮组第四图:系第三图之另一平面状态图。第五图:系本发明可控制式转轴之第三种机构平面示意图。第六图:系第五图之另一状态平面图。系表示在定位状态。第七图:系本发明可控制式转轴之第四种机构平面示意图。第八图:系第七图之另一平面状态图。第九图:系本发明可控制式转轴之第五种机构平面示意图。第十图:系本发明可控制式转轴之第六种机构平面示意图。第十一图:系第十图可控制式转轴之另一机构之平面图。第十二图:系本发明可控制式转轴之另一个实施例之平面图。第十三图:系本发明之一种可控制式枢转盖体装置之实施例图。第十四图:系本发明之一种可控制式枢转盖体装置之另一实施例图。第十五图:系本发明之一种可控制式枢转盖体装置之操作示意图。 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