发明名称 清洗垂直式炉管的设备及方法
摘要 一种清洗垂直式炉管的设备及方法,此清洗设备系由一溢流槽以及一清洗液供应装置所组成。而清洗方法则系将待清洗的垂直式炉管放置在溢流槽内,再由配置于炉管底部内的清洗液供应装置喷洒清洗液至炉管内部,之后清洗液会顺着炉管内壁流下至溢流槽内,而使炉管底部浸泡在清洗液中。另外,溢流槽底部有形成至少一个的排出孔,可用以控制溢流槽内之清洗液的多寡,进而控制炉管底部浸泡在清洗液中的时间。由于通常在炉管底部有较厚的沈积物,所以此种清洗方法可将炉管底部清洗乾净,且清洗液不会对炉管的其他部位造成过度侵蚀。伍、(一)、本案代表图为:第 2 图(二)、本案代表图之元件代表符号简单说明:200:垂直式炉管 202:清洗液供应装置204:清洗液之行经路线 210:溢流槽 212:溢流槽底部之可调式排出孔214:清洗液 216:隔离腔室
申请公布号 TW590813 申请公布日期 2004.06.11
申请号 TW092121341 申请日期 2003.08.05
申请人 旺宏电子股份有限公司 发明人 曾国邦;王朝祥
分类号 B08B3/00 主分类号 B08B3/00
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路二段一○○号七楼之一;萧锡清 台北市中正区罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种清洗垂直式炉管的设备,包括:一溢流槽,其中待清洗之一垂直式炉管系放置在该溢流槽内;以及一清洗液供应装置,配置在该垂直式炉管之底部处,用以对该垂直式炉管之内部喷洒一清洗液,其中,该清洗液喷洒至该垂直式炉管之后,会流下来至该溢流槽内,而使该垂直式炉管之底部浸泡在该清洗液中。2.如申请专利范围第1项所述之清洗垂直式炉管的设备,其中该溢流槽之底部更包括形成有至少一排出孔。3.如申请专利范围第2项所述之清洗垂直式炉管的设备,其中该排出孔系为可调节排出流量之排出孔。4.如申请专利范围第1项所述之清洗垂直式炉管的设备,更包括一隔离腔室,而该垂直式炉管、该溢流槽以及该清洗液供应装置都设置在该隔离腔室中。5.如申请专利范围第1项所述之清洗垂直式炉管的设备,其中该垂直式炉管系为一垂直式石英炉管。6.一种清洗垂直式炉管的方法,包括:将一垂直式炉管系放置在一溢流槽内;以及由该垂直式炉管之底部喷洒一清洗液至该垂直式炉管内部,且从该垂直式炉管内流下来的该清洗液会流至该溢流槽内,而使该垂直式炉管之底部浸泡在该清洗液中。7.如申请专利范围第6项所述之清洗垂直式炉管的方法,更包括在该溢流槽之底部设置至少一排出孔,以控制该溢流槽内之该清洗液的量。8.如申请专利范围第6项所述之清洗垂直式炉管的方法,其中清洗该垂直式炉管之步骤是在一隔离腔室中进行。图式简单说明:第1图是习知的清洗垂直式炉管的设备之剖面图。第2图是本发明一较佳实施例的一种清洗垂直式炉管的设备之剖面图。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路十六号