光学可扫描载体之制造方法

摘要

本发明关于制造主模(1)之一种方法，该主模系用以制造一光学资讯磁碟，如CD，DVD。根据此方法，一基体(3)上备有一光阻层(5)，该层随后以辐射光束(7)加一辐射，光束系由光镜系统(9)，聚焦在层上之一扫描点(11)上。一种液体，如水供应在光阻层与面对该层之透镜系统之辅助透镜(59)间之一间隙(53)中。结果，扫描点之尺寸降低，资讯磁碟之资讯密度增加。根据本发明，液体经一供应开口(69)供应，开口位于辅助透镜(59)之紧邻，一方向如自扫描点(11)观之，与方向(Z)相反，基体(3)在该方向中与透镜系统(9)相对移动。因此，经供应开口供应之液体立即并仅传输至该间隙(53)中，故充满间隙液体之量有限。供应开口在一壁部份(65)构成，其在一想像平面中延伸，其中，有一辅助透镜(59)之侧壁(63)面对光阻层。结果，获得一均匀之柯特(Couette)水流，而无空气于间隙中。此柯特水流不会造成透镜系统之任何不理想震动。本发明尚关于制造光学资讯磁碟之方法，根据该方法，一主模(1)于第一步骤中制成，资讯光碟在第二步骤中，以利用主模以复制品方式制成。本发明尚关于一装置(25)，根据本发明之方法用以制造一主模。

主权项

1.一种用以制造一光可扫描资讯载体之方法,该方 法含一第一步骤,其中,制造一主模,及一第二步骤, 其中利用主模或利用由主模所制之子模,以复制方 法制造资讯载体,在第一步骤中,备于基体上之光 阻层由调变之辐射光束所辐照,该光束以一光透镜 系统聚焦在光阻层上之扫描点,基体与透镜系统可 相对移动,一种液体提供至光阻层与面对光阻层之 透镜系统之一透镜之间之一间隙中,其特征为液体 经一外流开口提供,该开口,在扫描点与透镜系统 之相对位置,自基体之位移方向观之,其位于自扫 描点之上流并邻近该透镜,该外流开口系备于一壁 中,其在一想像平面中延伸,其中,面对光阻层之透 镜之一侧延伸。2.一种制造一主模之方法,主模被 用以制造一光学可扫描资讯载体,根据该方法,备 于基体上之光阻层由调变之辐射光束所辐照,该光 束由光透镜系统聚焦在光阻层上之一扫描点,基体 与透镜系统彼此相对移动,一种液体提供于间隙中 ,间隙位于光阻层与面对光阻层之透镜系统之间, 其特征为液体经一外流开口供应,该开口,在扫描 点与透镜系统相对位置之基体位移方向观之,系位 于自扫描点上流,并邻近该透镜,该外流开口备于 一壁中,其在一想像平面中延伸,其中,面对光阻层 之透镜之一侧延伸。3.如申请专利范围第1或2项之 方法,其特征为基体为碟形并绕一旋转轴旋转,该 轴与基体成垂直延伸,当透镜系统在与旋转轴成径 向位移时,液体经一外流开口供应,该开口,自旋转 轴之切线方向观之,位于自旋转轴之上流。4.如申 请专利范围第1或2项之方法,其特征为液体经一外 流开口以流速=0.5*V*H*W提供,其中之W至少等于2*H* NA/ ;V为一速度,基体以该速度与旋转轴之径向位移 ,H为间隙之高度,W为一宽度,液体自与位移方向成 垂直之方向观之,在该宽度扩散进入间隙,NA为透镜 系统之数値孔径,n为液体之折射率。5.如申请专利 范围第4项之方法,其特征为宽度W至多约为10*H。6. 如申请专利范围第4项之方法,其特征为高度H至少 为4m,至多约为100m。7.如申请专利范围第6项之 方法,其特征为高度H至少为7m,至多约为10m。8. 如申请专利范围第4项之方法,其特征为外流开口 形,直径至多约为0.5*W。9.如申请专利范围第1或2项 之方法,其特征为自位移方向,自透镜之下流观之, 液体由光阻层摘取。10.一种用以制造一主模之装 置,主模被用以制造一光学可扫描资讯载体,该装 置备有一盘,可绕旋转轴旋转,盘上可置一有光阻 层之基体,以一辐射源,一光透镜系统供将作业时 辐射源产生之辐射光束,聚焦至光阻层上之一扫描 点,一位移装置,由此装置,透镜系统可被其在与旋 转轴之径向上位移,及一液体供应装置以提供液体 于一间隙中,其位于光阻层与面对光阻层透镜系统 之一透镜之间,其特征为液体供应系统含一外流开 口,其自旋转轴之切线方向观之,位于自光轴之上 流并邻近该透镜,该外流开口备于一壁中,其在一 想像平面中延伸,其中,面对光丛之透镜之一侧其 中延伸。11.如申请专利范围第10项之装置,其特征 为作业时,液体经一外流开口以流速=0.5*V*H*W提 供,其中W至少等于2*H*NA/ ,V为基体在与透镜系统之 光轴之位置之速度,H为间隙之高度尺寸,W为液体流 自径向观之宽度,NA为透镜系统之数値孔径,n为液 体之光折射率。12.如申请专利范围第11项之装置, 其特征为宽度W至多约为10*H。13.如申请专利范围 第11项之装置,其特征为高度H至少为4m,至多为100 m。14.如申请专利范围第13项之装置,其特征为其 中之高度H至少7m,至多为10m。15.如申请专利范 围第11项之装置,其特征为外流开口形,其直径约为 0.5*W。16.如申请专利范围第11项之装置,其特征为 面对光阻层之透镜之一侧备有一水闸,其自切线方 向观之,自光轴延伸至上流,及有一宽度,等于液体 流之理想宽度W,外流开口备于另一水闸中,其自切 线方向观之,具有同一宽度,与透镜之水闸连接。17 .如申请专利范围第10项之装置,其特征为此装置包 括一摘取装置,自外流开口与透镜系统相对观之, 其系安排于下流。18.如申请专利范围第17项之装 置,其特征为摘取装置有一摘取口,其可由另一位 移装置予以位移,与透镜系统同步在一与旋转轴之 另一径向位移。图式简单说明: 图1A至1E为图解显示本发明一方法之数步骤以制造 一光学可描资讯载体,及本发明制造一主模方法, 其用以制造光学可扫描资讯载体, 图2为图解显示本发明之装置,其用于图1A至图1E中 显示之方法, 图3为图解显示一基体之平面图,其在图2之装置处 理, 图4为图2中显示之透镜系统之剖面图,及在透镜下 方之基体之剖面图, 图5为图4中之透镜系统底视图,及出现在透镜与基 体间之液体流, 图6为本发明之装置之另一实施例之一基体及在其 上之透镜系统之剖面图,其可用于图1A至图1E显示 之方法中,及 图7为图6中透镜系统之底视图出现在透镜与基体 间之液体流。