| 主权项 |
1.一种动态薄膜厚度监控装置,包括一遮板及一膜 厚监控装置所组成;该遮板置于基板与镀膜源之间 ,该膜厚监控装置置于能检测到监控讯号的位置; 俾利用膜厚监控装置即时监控所镀薄膜之厚度,并 依膜厚监控装置取得之膜厚监控値逐渐移动遮板, 使遮板遮蔽基板上膜厚到达设计目标厚度之区域 。2.如申请专利范围第1项所述之动态薄膜厚度监 控装置,其中该膜厚监控装置包括一石英晶片,该 石英晶片结合于该遮板端部下方。3.如申请专利 范围第2项所述之动态薄膜厚度监控装置,其中该 基板与镀膜源之间设有另一遮板,该另一遮板与该 遮板之间有一间隔,该另一遮板与该遮板相对端部 下方结合另一石英晶片。4.如申请专利范围第1项 所述之动态薄膜厚度监控装置,其中该膜厚监控装 置包括一光源及一侦测器/或光纤;该光源置于镀 膜真空系统之视窗外侧,俾使光源的光线由视窗外 射入真空系统内之透明基板;该侦测器/或光纤结 合于该遮板端部下方,侦测器/或光纤前端结合一 个小管子,俾利用该侦测器量测穿透基板及薄膜光 线的透射率/或利用光纤导引光线作为侦测之用。 5.如申请专利范围第4项所述之动态薄膜厚度监控 装置,其中该膜厚监控装置包括另一侦测器/或光 纤,该侦测器/或光纤置于该视窗外侧,俾利用该另 一侦测器侦测基板反射光线的反射率/或利用另一 光纤导引光线作为侦测之用。6.如申请专利范围 第1项所述之动态薄膜厚度监控装置,其中该膜厚 监控装置包括一光源及一侦测器/或光纤;该光源 及侦测器/或光纤置于镀膜真空系统之视窗外侧, 俾使光源的光线由视窗外射入真空系统内之透明 基板,且利用该侦测器量测基板反射光线的反射率 /或利用光纤导引光线作为侦测之用。7.如申请专 利范围第6项所述之动态薄膜厚度监控装置,其中 该膜厚监控装置包括另一侦测器/或光纤,该侦测 器/或光纤置于视窗外侧,俾利用该另一侦测器量 测穿透基板及薄膜光线的透射率/或利用另一光纤 导引光线作为侦测之用。8.如申请专利范围第1项 所述之动态薄膜厚度监控装置,其中该膜厚监控装 置包括二光纤,该遮板下端结合一光纤;于基板的 另一侧之相对位置设另一光纤,该两光纤之端部成 相对配置;俾使监控用的光线由其中一光纤进入另 一光纤,即可监控薄膜的厚度。9.如申请专利范围 第8项所述之动态薄膜厚度监控系统装置,其中该 二光纤可将光纤端部分别套接于细管子内。10.如 申请专利范围第6项所述之动态薄膜厚度监控装置 ,其中该遮板之结构、形状如照相机之光圈可以由 外往内遮住基板。11.如申请专利范围第7项所述之 动态薄膜厚度监控装置,其中该遮板之结构、形状 如照相机之光圈可以由外往内遮住基板。12.如申 请专利范围第10项所述之动态薄膜厚度监控装置, 其中该镀膜源为中空环形/或非中空坩埚或溅镀靶 。13.如申请专利范围第12项所述之动态薄膜厚度 监控装置,其中该中空环形/或非中空坩埚或溅镀 靶与另一中空环形/或非中空坩埚或溅镀靶置于一 基座上,俾经由控制基座之旋转,可以选择不同的 镀膜材料。14.如申请专利范围第1项所述之动态薄 膜厚度监控装置,其中该基板为圆柱形或接近圆柱 形可对着其中间轴旋转,遮板、镀膜源置于基板内 侧;镀膜源置于一基座上;该膜厚监控装置包括一 光源及一侦测器或光纤;该光源置于基座另一侧, 该侦测器/或光纤置于基板外侧与光源相对之位置 。15.如申请专利范围第1项所述之动态薄膜厚度监 控装置,其中该基板为圆柱形或接近圆柱形可对着 其中间轴旋转,遮板、镀膜源置于基板外侧;镀膜 源置于一基座上;该膜厚监控装置包括一光源及一 侦测器/或光纤;该光源结合于基座另一侧,该侦测 器/或光纤置于基板内侧与光源相对之位置。16.如 申请专利范围第14项所述之动态薄膜厚度监控装 置,其中该基座结合于一滑轨上;该基座上方结合 至少一镀膜源。17.如申请专利范围第15项所述之 动态薄膜厚度监控装置,其中该基座结合于一滑轨 上;该基座上方结合至少一镀膜源。18.如申请专利 范围第1项所述之动态薄膜厚度监控装置,其中该 遮板是由至少二长条形的板片紧靠/或部分相叠在 一起所组成。19.如申请专利范围第18项所述之动 态薄膜厚度监控装置,其中该板片之一端设有卷孔 以套接一卷轴。20.如申请专利范围第18项所述之 动态薄膜厚度监控装置,其中该板片于相邻处呈平 顺的相连。21.一种动态薄膜厚度监控方法,系在基 板与镀膜源之间安排一个/或一个以上的遮板;以 膜厚监控装置即时监控所镀薄膜之厚度;依膜厚监 控装置取得之膜厚监控値逐渐移动遮板,使遮板遮 蔽基板上膜厚到达设计目标厚度之区域。22.如申 请专利范围第21项所述之动态薄膜厚度监控方法, 其中该一个以上的遮板大约成平行排列,且紧靠/ 或部分相叠在一起,遮板之间无缝隙。23.如申请专 利范围第21项所述之动态薄膜厚度监控方法,系利 用机械手臂或夹持机构来控制遮板的移动。24.如 申请专利范围第21项所述之动态薄膜厚度监控方 法,其中该膜厚监控装置包括石英晶片。25.如申请 专利范围第21项所述之动态薄膜厚度监控方法,其 中该膜厚监控装置包括光源及侦测器。26.如申请 专利范围第21项所述之动态薄膜厚度监控方法,其 中该膜厚监控装置包括光源及光纤。27.一种具动 态薄膜厚度监控之镀膜方法,系在基板与镀膜源之 间安排一个/或一个以上的遮板;使镀膜源散发镀 膜材料对基板进行镀膜;以膜厚监控装置即时监控 所镀薄膜之厚度;依膜厚监控装置取得之膜厚监控 値逐渐移动遮板,使遮板遮蔽基板上膜厚到达设计 目标厚度之区域,即完成此层薄膜的镀膜。28.如申 请专利范围第27项所述之具动态薄膜厚度监控之 镀膜方法,其中在进行镀膜中使该基板是旋转的、 移动的或静止的。29.如申请专利范围第27项所述 之具动态薄膜厚度监控之镀膜方法,其中该镀膜源 是一个或多个或多个不同种类之组合。30.如申请 专利范围第27项所述之具动态薄膜厚度监控之镀 膜方法,其中在进行镀膜中使该镀膜源是静止的或 移动的或转动的。图式简单说明: 图1为习知镀膜系统示意图。 图2为习知镀膜系统的基板置具旋转示意图。 图3为习知镀膜系统的基板置具行星形旋转示意图 。 图4为本发明第一实施例示意图。 图5为本发明第二实施例示意图。 图6为本发明第三实施例示意图。 图7为本发明第四实施例示意图。 图8为本发明第五实施例示意图。 图9为本发明第六实施例示意图。 图10为本发明第七实施例示意图。 图11为本发明第八实施例示意图。 图12为本发明第九实施例剖面示意图。 图13为本发明第九实施例另一方向剖面示意图。 图14为本发明第十实施例示意图。 图15为本发明遮板施例示意图。 图16为本发明遮板组合之实施例示意图。 图17为本发明遮板之调整实施例示意图。 |
