| 发明名称 | 形成网状结构光阻层的方法 | ||
| 摘要 | 一种形成网状结构光致抗蚀层的方法，包括：提供一光致抗蚀层；以一光源照射所述光致抗蚀层；以及将所述照射过的光致抗蚀层，置于一交联剂(crosslinking agent)的蒸汽中，使形成一网状结构的光致抗蚀层。它是一种形成网状结构的化学增强的光致抗蚀层的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1153260C | 申请公布日期 | 2004.06.09 |
| 申请号 | CN01118942.8 | 申请日期 | 2001.05.16 |
| 申请人 | 华邦电子股份有限公司 | 发明人 | 张文彬 |
| 分类号 | H01L21/027;H01L21/312;G03F7/26 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 任永武 |
| 主权项 | 1.一种形成网状结构光致抗蚀层的方法，其特征在于，它包括：提供一光致抗蚀层； 以一紫外线光源照射所述光致抗蚀层；以及将所述照射过的光致抗蚀层置于一交联剂双环氧丁二烯的蒸汽中，使形成一网状结构的光致抗蚀层。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹市新竹科学工业园区研新三路4号 | ||