| 发明名称 |
Process and apparatus for the deposition of dielectric layers |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1111664(A3) |
申请公布日期 |
2004.06.09 |
| 申请号 |
EP20000126110 |
申请日期 |
2000.11.29 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
HUA, ZHONG QIANG;KHAZENI, KASRA |
| 分类号 |
H01L21/205;C23C16/34;C23C16/40;C23C16/42;C23C16/505;C23C16/56;H01L21/31;H01L21/316;H01L21/318;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):H01L21/316 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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