| 发明名称 |
Veraschungsverfahren zum Entfernen einer organischen Schicht auf einer Halbleiteranordnung während ihrer Herstellung |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE68929503(T2) |
申请公布日期 |
2004.06.09 |
| 申请号 |
DE19896029503T |
申请日期 |
1989.06.07 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD., KAWASAKI |
发明人 |
SHINAGAWA, KEISUKE;FUJIMURA, SHUZO;HIKAZUTANI, KENICHI |
| 分类号 |
C23G5/00;G03F7/42;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/311 |
主分类号 |
C23G5/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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