| 发明名称 | 新型的N－乙烯基内酰胺衍生物和其聚合物 | ||
| 摘要 | 提供了在3位受到保护的N-乙烯基内酰胺衍生物，它由通式(I)表示。这些衍生物被聚合成均聚物和共聚物，并用于半导体制造的微平版印刷方法。该聚合物用作适合于深UV处理的光刻胶原料，从而能够获得具有高灵敏度和高分辨率的图象。还有，通过使用本发明的光刻胶，能够形成超细电路并能够在图案形成上具有优异的改进。∴ | ||
| 申请公布号 | CN1152859C | 申请公布日期 | 2004.06.09 |
| 申请号 | CN96119905.9 | 申请日期 | 1996.09.16 |
| 申请人 | 现代电子产业株式会社;韩国科学技术院 | 发明人 | 金镇伯;郑旼镐;张镜浩 |
| 分类号 | C07D207/38;C08G69/22 | 主分类号 | C07D207/38 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 林潮;王维玉 |
| 主权项 | 1、N-乙烯基内酰胺衍生物的均聚物，由以下通式(II)表示：<img file="C9611990500021.GIF" wi="513" he="500" />其中R<sub>1</sub>是氢；R<sub>2</sub>是-C0<sub>2</sub>R’，其中R’是叔丁基、四氢吡喃或四氢呋喃；R<sub>3</sub>是氢；R<sub>4</sub>和R<sub>5</sub>是H或含有1-10个碳原子的烷基；m是整数1-3；和n是整数10-10,000。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||