发明名称 光化学反应处理装置和光化学反应处理方法
摘要 本发明涉及光化学反应处理装置和光化学反应处理方法。本发明提供通过将光照射量控制在所定的水准上,能够控制由于光量过多引起的不希望的光反应,并且节省能量,节省维护的光反应处理装置及其方法。根据本发明,则在具备多个光源,通过来自该光源的光的照射进行被照射体的光化学反应处理的光化学反应处理装置中,通过点亮或调光点亮许多光源中的一部分光源,顺次地切换点亮或调光点亮的光源组合,并且根据光源随着时间经过照度下降的特性,伴随着使用时间的经过,变更点亮或调光点亮的光源数和熄灭的光源数的比率,能够将对被照射体的光照射量控制在所定的水准上,能够抑制由于光量过多引起的不希望的光反应。
申请公布号 CN1502403A 申请公布日期 2004.06.09
申请号 CN02152754.7 申请日期 2002.11.27
申请人 株式会社日本光电科技 发明人 角谷祐公;中野浩二
分类号 B01J19/12;C02F1/32 主分类号 B01J19/12
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 罗亚川
主权项 1.光化学反应处理装置,它的特征是在具备多个光源,通过来自该光源的光的照射进行被照射体的光化学反应处理的光化学反应处理装置中,通过与使用点亮光源的经过时间对应地进行控制,将对上述被照射体的光照射量控制在所定的水准上。
地址 日本东京